| 发明名称 | 抛光组合物及使用它的抛光方法 | ||
| 摘要 | 一种抛光组合物,它含有下述组分(a)－(g):(a)至少一种选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆和氧化钛的磨料;(b)脂族羧酸;(c)至少一种选自铵盐、碱金属盐、碱土金属盐、有机胺化合物和季铵盐的碱性化合物;(d)至少一种选自柠檬酸、乙二酸、酒石酸、甘氨酸、α－丙氨酸和组氨酸的促进抛光的化合物;(e)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂;(f)过氧化氢和(g)水。 | ||
| 申请公布号 | CN1369530A | 申请公布日期 | 2002.09.18 |
| 申请号 | CN02103380.3 | 申请日期 | 2002.01.31 |
| 申请人 | 不二见株式会社 | 发明人 | 浅野宏;酒井谦儿;伊奈克芳 |
| 分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 白益华 |
| 主权项 | 1.一种抛光组合物，它含有下述组分(a)-(g)：(a)至少一种选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆和氧化钛的磨料；(b)脂族羧酸；(c)至少一种选自铵盐、碱金属盐、碱土金属盐、有机胺化合物和季铵盐的碱性化合物；(d)至少一种选自柠檬酸、乙二酸、酒石酸、甘氨酸、α-丙氨酸和组氨酸的促进抛光的化合物；(e)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂；(f)过氧化氢；(g)水。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||