COMPOSICION DE REVESTIMIENTO POR DEPOSITO ELECTROLITICO, QUE CONTIENE BISMUTO Y ACIDOS AMINADOS, Y PROCEDIMIENTO DE DEPOSITO ASOCIADO.

摘要

LA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION DE REVESTIMIENTO POR DEPOSITO ELECTROLITICO QUE COMPRENDE (A) UNA RESINA QUE CONTIENE UN HIDROGENO ACTIVO Y UN GRUPO DE SAL CATIONICO Y QUE PUEDE DEPOSITARSE POR ELECTROLISIS, (B) UN AGENTE DE ENDURECIMIENTO DESTINADO A ENDURECER POR TRANSURETANACION, TRANSAMIDACION O TRANSESTERIFICACION, COMO AL MENOS UN AGENTE DE ENDURECIMIENTO DEL TIPO POLIISOCIANATO PARCIALMENTE CUBIERTO Y (C) UNA MEZCLA CATALITICA DE BISMUTO Y DE UN AMINOACIDO O DE UN PRECURSOR DE AMINOACIDO. OPCIONALMENTE, SE PUEDE AÑADIR UN ACIDO SUPLEMENTARIO PARA AUMENTAR LA EFICACIA DEL AMINOACIDO EN LA MEZCLA CON EL BISMUTO.