| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE19983361(T1) |
申请公布日期 |
2002.09.12 |
| 申请号 |
DE19991083361T |
申请日期 |
1999.05.12 |
| 申请人 |
ASAHI KASEI MICROSYSTEMS CO., LTD. |
发明人 |
SHIOKAWA, NAGAMASA |
| 分类号 |
H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/28;H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
