| 主权项 |
1.一种光电装置的制造方法,是属于一种具备:在光透过性基板的一方面形成遮光层之工程;及使上述遮光层形成图案之工程;及在上述被形成图案的遮光层上形成绝缘体层之工程;及使上述绝缘体层形成平坦化之工程;及在上述被平坦化的绝缘体层表面上贴合单结晶矽层之工程;及藉由上述单结晶矽层来形成电晶体元件之工程;等之光电装置的制造力法;其特征为:上述被形成图案的遮光层是被配置于对向于上述电晶体元件的领域及上述电晶体元件的周边领域。2.如申请专利范围第1项之光电装置的制造方法,其中上述光透过性基板是藉由对向基板与密封材贴合而成,上述周边领域为对向于上述封材的领域。3.如申请专利范围第1或2项之光电装置的制造方法,其中在使形成于上述光透过性基板上的绝缘体层形成平坦化之工程中,是使用化学机械研磨法。4.一种光电装置,是属于一种具备:形成于光透过性基板的一方面,且被形成图案之遮光层;及形成于上述被形成图案的遮光层上,且被实施平坦化处理之绝缘体层;及形成于上述被平坦化的绝缘体层上之开关元件;等之光电装置;其特征为:上述被形成图案的遮光层是被设置于对向于上述电晶体元件的领域及上述电晶体元件的周边领域。5.如申请专利范围第4项之光电装置,其中被设置于未形成上述电晶体元件的领域之遮光层图案,是将形成于设有上述电晶体元件的领域的图案予以重复展开于2次方向而成者。6.如申请专利范围第4或5项之光电装置,其中上述光透性基板是由石英所构成,上述遮光层是由高熔点金属或高熔点金属的矽化物所构成。7.一种光电装置的制造方法,是属于一种在透明基板上具有:像素电极与连接于上述像素电极的电晶体为形成矩阵状之显示领域;及供以从配置于上述显示领域的周边领域的驱动电路及外部电路来输入信号之外部电路连接端子;等之光电装置的制造方法;其特征是具有:在上述透明基板上形成遮光层之工程;及使上述遮光层形成图案之工程;及在上述被形成图案的遮光层上形成绝缘体层之工程;及使上述绝缘体层形成平坦化之工程;及在上述被平坦化的绝缘体层表面上贴合单结晶矽层之工程;及藉由上述单结晶矽层来形成上述电晶体之工程;又,上述被形成图案的遮光层是被配置于上述电晶体及上述周边领域,上述周边领域的遮光层是对向配置于上述驱动电路。8.如申请专利范围第7项之光电装置的制造方法,其中上述被形成图案的遮光层是被配置于对向于上述外部电路连接端子的领域中。9.一种光电装置的制造方法,是属于一种在透明基板上具有:像素电极与连接于上述像素电极的电晶体为形成矩阵状之显示领域;及供以从配置于上述显示领域的周边领域的驱动电路及外部电路来输入信号之外部电路连接端子;等之光电装置的制造方法;其特征是具有:在上述透明基板上形成遮光层之工程;及使上述遮光层形成图案之工程;及在上述被形成图案的遮光层上形成绝缘体层之工程;及使上述绝缘体层形成平坦化之工程;及在上述被平坦化的绝缘体层表面上贴合单结晶矽层之工程;及藉由上述单结晶矽层来形成上述电晶体之工程;又,上述被形成图案的遮光层是被配置于上述电晶体及上述周边领域,上述周边领域的遮光层是被配置于上述驱动电路及上述外部电路连接端子的周边,而未配置于对向于上述驱动电路的领域中。10.如申请专利范围第7,8或9项之光电装置的制造方法,其中使上述绝缘体层形成平坦化的工程是使用化学机械研磨法。11.如申请专利范围第7项之光电装置的制造方法,其中被配置于对向于上述电晶体的领域之遮光层的形状是与配置于上述显示领域的周边之遮光层的形状几乎相同。12.如申请专利范围第4或5项之光电装置,其中更具备:以能够与形成有上述光透过性基板的单结晶矽层的面呈对向的方式来予以配置之其他光透过性基板;及被挟持于2片的光透性基板间,且藉由形成于上述电晶体元件领域中的开关元件来予以驱动之液晶。13.一种电子机器,其特征是具备:光源;及从上述光源射出的光被射入后实施对应于像素资讯的调变之申请专利范围第12项所记载的光电装置;及投射藉由上述光电装置而被调变的光之投射手段。图式简单说明:第1图是表示本发明之光电装置的基本构成。第2(a),(b)图是依顺序表示第1图所示之光电装置的制造过程图(其一)。第3(a)-(d)图是依顺序表示第1图所示之光电装置的制造过程图(其二)。第4(a)图是依顺序表示第1图所示之光电装置的制造过程图(其三)。第5图是表示设置于构成液晶装置之一实施形态的图像形成领域之矩阵状的复数个像素中的各种元件,配线等之等效电路图。第6图是表示形成有液晶装置之一实施形态的资料线,扫描线,像素电极,遮光膜等之TFT阵列基板的相邻接之复数个像素群的平面图。第7图是表示在液晶装置之一实施形态的TFT阵列基板中之像素部的周边领域构造的平面图。第8图是表示在液晶装置之一实施形态的TFT阵列基板中之像素部的周边领域构造的平面图。第9图是表示在液晶装置之一实施形态的TFT阵列基板中之像素部的周边领域构造的平面图。第10图是表示第6图之A-A'剖面图。第11(a)-(i)图是依顺序表示液晶装置之一实施形态的制造过程图(其一)。第12(a)-(d)图是依顺序表示液晶装置之一实施形态的制造过程图(其二)。第13(a)-(e)图是依顺序表示液晶装置之一实施形态的制造过程图(其三)。第14(a)-(d)图是依顺序表示液晶装置之一实施形态的制造过程图(其四)。第15(a)-(c)图是依顺序表示液晶装置之一实施形态的制造过程图(其五)。第16(a)-(c)图是依顺序表示液晶装置之一实施形态的制造过程图(其六)。第17图是表示由对向基板侧所见之液晶装置之一实施形态的TFT基板及其上面所形成的各构成要素的平面图。第18图是表示第17图之H-H'剖面图。第19图是表示使用液晶装置的电子机器之一例的投射型显示装置的构成图。 |
