发明名称 | 具有改进投射性的磨粒 | ||
摘要 | 本发明提供具有在UP沉积过程中改进投射性的磨粒,它具有第一导电性涂层和包含含硅化合物的第二涂层。 | ||
申请公布号 | CN1368998A | 申请公布日期 | 2002.09.11 |
申请号 | CN00811302.5 | 申请日期 | 2000.07.19 |
申请人 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 发明人 | J·孙 |
分类号 | C09K3/14 | 主分类号 | C09K3/14 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 白益华 |
主权项 | 1.一种具有改进投射性的磨粒,该磨粒上具有含导电性材料的第一表面涂层和位于该第一表面涂层上的第二表面涂层,该第二表面涂层包含选自硅酸盐(酯)、氨基硅烷和它们的混合物的含硅化合物。 | ||
地址 | 美国马萨诸塞州 |