| 摘要 |
<p>주파수 변조된 반도체 레이저광을 감압 상태의 피측정 기체에 투과시켜 광흡수 강도의 2차 미분 스펙트럼을 얻는 것에 의해, 피측정 기체 중의 미량 불순물을 분석하는 기체의 분광분석 장치에, 반도체 레이저(11)의 특성에 따라 레이저광의 변조 진폭을 제어하기 위한 변조 진폭 연산 수단(1)과, 측정에 의해 얻어진 2차 미분 스펙트럼에서 피크의 좌우의 극소값의 파장 간격 및 피크의 흡수 강도를 연산하는 스펙트럼 연산 수단(2)과, 스펙트럼 연산 수단(2)에서 얻어진 흡수 강도의 값이 최대로 되도록 측정용 기체셀(14) 내의 압력을 제어하기 위한 압력 조정 수단(3)을 설치한다. 2차 미분 스펙트럼에서 피크의 좌우의 극소값의 파장 폭이 0.0116 ㎚로 되도록 레이저광의 변조 진폭의 최적값을 설정한다. 변조 진폭을 최적값으로 설정하여 측정 압력을 최적화한다.</p> |
