| 发明名称 | 一种半导体生产系统 | ||
| 摘要 | 一种半导体生产系统,包括:a)至少一个用于接收包括全氟化合物气体和载运气体的气体混合物的反应器容器,该反应器容器上接有一根反应器排气导管;b)至少一个具有一个进料侧和一个渗透侧的粒度选择膜分离单元,所述膜相对于至少一种全氟化合物气体来讲,优先渗透至少一种载运气体,所述膜单元通过该反应器排气导管连接到所述反应器容器,所述膜具有一个渗透物排出导管和一个不渗透物导管,及c)使至少一部分不渗透物流从所述膜单元再循环回到至少一个反应器容器中的装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1367523A | 申请公布日期 | 2002.09.04 |
| 申请号 | CN01143570.4 | 申请日期 | 1998.01.13 |
| 申请人 | 液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司 | 发明人 | Y－E·李;J·帕甘尼斯;D·瓦萨罗;G·K·弗莱明 |
| 分类号 | H01L21/00;C07B63/00;B01D53/00;B01D61/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 孙爱 |
| 主权项 | 1.一种半导体生产系统，包括：a)至少一个用于接收包括全氟化合物气体和载运气体的气体混合物的反应器容器，该反应器容器上接有一根反应器排气导管；b)至少一个具有一个进料侧和一个渗透侧的粒度选择膜分离单元，所述膜相对于至少一种全氟化合物气体来讲，优先渗透至少一种载运气体，所述膜单元通过该反应器排气导管连接到所述反应器容器，所述膜具有一个渗透物排出导管和一个不渗透物导管，及c)使至少一部分不渗透物流从所述膜单元再循环回到至少一个反应器容器中的装置。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||