发明名称 Gas distribution plate
摘要 An apparatus for use in a substrate processing system. The apparatus is generally a fluid distribution plate comprising an inner disk and an outer ring. The fluid distribution plate has a plurality of openings for fluid distribution and at least one slot defined therein.
申请公布号 US6444040(B1) 申请公布日期 2002.09.03
申请号 US20000565150 申请日期 2000.05.05
申请人 APPLIED MATERIALS INC. 发明人 HERCHEN HARALD;PALAGASHVILI DAVID;LUBOMIRSKY DMITRY;SCHREIBER ALEX
分类号 C23C16/44;C23C16/455;H01L21/00;(IPC1-7):C23C16/00 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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