| 主权项 |
1.一种扫描曝光方法,系藉由沿扫描方向同步扫描光罩与基板,以将前述光罩之图案扫描曝光于基板上,其特征在于:依据载置基板的座台之可移动范围、以及扫描曝光基板时座台所移动之扫描范围,来设定前述座台之扫描方向。2.如申请专利范围第1项之扫描曝光方法,其中,前述扫描范围系包含:座台之加速范围、用以减少光罩与基板之同步偏离之座台的同步稳定范围、同步扫描光罩与基板之座台的同步扫描范围、座台之减速范围。3.如申请专利范围第2项之扫描曝光方法,其中,在前述同步扫描范围扫描曝光图案于基板之既定领域时,系依据同步扫描范围与可移动范围的关系来设定前述座台之扫描方向。4.如申请专利范围第2项或第3项之扫描曝光方法,其中,系依据同步扫描范围与扫描曝光图案之基板曝光范围来设定座台之扫描方向。5.如申请专利范围第4项之扫描曝光方法,其中,将位于前述扫描方向之座台一端部附近之曝光范围予以曝光时,系依据同步扫描范围与曝光范围来设定座台之扫描方向。6.如申请专利范围第2项之扫描曝光方法,其中,在前述同步扫描之范围进行曝光时,系依据有无设置加速及同步稳定之范围于可移动范围内,而设定座台之扫描方向。7.一种扫描型曝光装置,系藉由沿扫描方向同步扫描光罩与基板,以将光罩之图案扫描曝光于基板之曝光范围,其特征为具备:载置有基板之移动于可移动范围之座台;及扫描曝光基板之曝光范围时,以既定之扫描范围驱动座台之控制机构;控制机构系依据可移动范围与既定之扫描范围,而设定座台之扫描方向。8.如申请专利范围第7项之扫描型曝光装置,其中,前述既定之扫描范围系包含:座台之加速范围、用以减少光罩与基板之同步偏离之座台同步稳定范围、同步扫描光罩与基板之座台同步扫描范围、及座台之减速范围;控制机构,系以同步扫描范围和基板的曝光范围形成大致一致的方式,来设定座台之扫描方向。9.如申请专利范围第8项之扫描型曝光装置,其中,相对于前述座台的载置面移动于扫描方向而配置之基板,在曝光范围进行扫描曝光时,前述控制机构系设定减速范围于可移动范围之一端附近。10.如申请专利范围第7.8项或9项之扫描型曝光装置,其中,前述基板之曝光领域系分割成复数之曝光范围,以藉由复数次之同步扫描进行扫描曝光;控制机构系因应复数曝光范围之各范围而设定座台之扫描方向。11.如申请专利范围第10项之扫描型曝光装置,其中,前述基板之曝光领域系分割成复数之曝光范围,以在扫描方向,藉复数次之同步扫描进行扫描曝光;控制机构系在曝光前述曝光范围之各范围时,将扫描方向设定成自基板的端部离开侧起,朝向端部侧附近进行扫描。12.如申请专利范围第11项之扫描型曝光装置,其中,前述基板之曝光领域系分割成复数之曝光范围,以在前述扫描方向,藉复数次之同步扫描进行扫描曝光;控制机构系控制成在曝光前述曝光范围时,朝和设定之扫描方向相反之方向移动,以检测邻接于曝光范围之对准标记。图式简单说明:第1图为表示本发明之实施形态图,表示扫描型曝光装置之概略构成之外观立体图。第2图为扫描型曝光装置之概略构成图。第3图为投影光学系统模组所设定之投影领域之俯视图。第4图为表示本发明之扫描曝光方法之第1实施形态之流程图。第5图为用以说明对准及曝光顺序用之说明图。第6图为用以说明对准及曝光顺序用之说明图。第7图为用以说明对准及曝光顺序用之说明图。第8图为表示本发明之扫描型曝光方法之第2实施形态之流程图。第9图为表示液晶显示装置之制造工程之一例之流程图。第10图为具有4个曝光图案之玻璃基板之俯视图。 |
