发明名称 被处理体之处理系统
摘要 一种被处理体的之处理系统具有界定关闭间隔的外壳。此外壳是配置有开口,经由此开口气密的载运箱被载入与载出。载运箱密封地容纳被处理体。用以开启与关闭载运箱的盖子之盖子操作机构是配置在开口附近。防污导管覆盖在载运箱的盖子附近的间隔,且供应高净度的乾净气体于其中,至少当载运箱的盖子被打开时。
申请公布号 TW501194 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW090120658 申请日期 2001.08.22
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 田一成;竹内靖
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种被处理体之处理系统,包含:外壳,界定一密闭间隔,外壳配置有一开口,经由此开口气密的载运箱被运进运出,载运箱密封地包含被处理体于其中,且配置有可拆卸的盖子;盖子操作机构,配置在开口附近,以开启与关闭载运箱的盖子;及防污导管,能够覆盖在载运箱的盖子附近的间隔,且能够供应高净度的乾净气体于其中,至少当载运箱的盖子被开启时。2.如申请专利范围第1项之处理系统,其中鼓风机是配置在开口附近以将乾净气体吹入防污导管中。3.如申请专利范围第2项之处理系统,其中过滤机构是配置在开口附近用于过滤气体以产生高净度的乾净气体。4.如申请专利范围第3项之处理系统,其中鼓风机与过滤机构是安装在共同框上,及框的出口端是自防污导管短距离间隔开。5.如申请专利范围第1项之处理系统,其中防污导管能够垂直地移动在防污导管覆盖盖子的工作位置,与离开载运箱沿着移动的路径的等待位置之间。6.如申请专利范围第1项之处理系统,其中资讯取得机构,其取得关于含于载运箱中的被处理体的资讯,是配置在开口附近。7.如申请专利范围第6项之处理系统,其中资讯取得机构能够垂直地移动在资讯取得机构面向载运箱的资讯取得位置,与离开载运箱沿着移动路径的等待位置之间。8.如申请专利范围第7项之处理系统,其中防污导管是适于覆盖在载运箱的盖子附近,及高净度的乾净气体是适于流经防污导管,当资讯取得机构功能以取得关于含于载运箱中的被处理体的资讯时。9.如申请专利范围第1项之处理系统,其中用于暂时储存载运箱于其中之储存单元是配置在外壳中。10.如申请专利范围第1项之处理系统,其中用于实施预设处理至含于载运箱中的被处理体的处理单元是配置在外壳中。11.一种被处理体之处理系统,包含:外壳,界定一密闭间隔,外壳配置有一开口,经由此开口气密的载运箱被运进运出,载运箱密封地包含被处理体于其中,且配置有可拆卸的盖子;运送机构,安装于外壳中用以运送载运箱;机台,配置于开口外侧用以支撑载运箱于其上;及移动机构,配置于机台中用以移动载运箱至转移位置,在此处载运箱可被转移至运送机构中。12.如申请专利范围第11项之处理系统,其中移动机构包含固定机构,用以暂时地固定载运箱。13.如申请专利范围第11项之处理系统,其中两个移动机构是配置于此一个机台。14.如申请专利范围第13项之处理系统,其中两个移动机构能够朝向于其间的中央而横向移动。15.如申请专利范围第11项之处理系统,其中用以操作关闭载运箱的盖子之盖子操作机构是配置在机台中。16.如申请专利范围第11项之处理系统,其中资讯取得机构,其取得关于含于载运箱中的被处理体的资讯,是配置在机台中。17.如申请专利范围第11项之处理系统,其中升降单元,是配置在转移位置下方,在此处载运箱可自移动机构转移至运送机构。18.如申请专利范围第11项之处理系统,其中用以暂时储存载运箱于其中之储存单元是配置在外壳中。19.如申请专利范围第11项之处理系统,其中用以实施预设处理至含于载运箱中的被处理体之处理单元是配置在外壳中。图式简单说明:图1是依据本发明的第一实施例于被处理体之处理系统的简图;图2是图1所示的防污导管的透视图;图3是图1所示的防污导管的简图;图4(A)~(J)是说明防污导管及与其相关的其它构件的操作的辅助图;图5是于修改中的防污导管的简图;图6是载运箱的透视图;图7是于盖子是开启的状态的载运箱的透视图;图8(a)~(b)是盖子锁固机构的前视图;图9是于依据本发明的第二实施例中之处理系统的透视图;图10是图9所示之垂直热处理系统的纵向截面图;图11是机台的平面图;图12是固定机构的透视图;图13A是移动机构的侧视图;图13B是图13A所示之移动机构的平面图;图14是说明固定机构操作的侧视辅助图;图15是资讯取得机构的透视图;及图16(a)~(f)是说明移动机构及相关机构的操作的辅助图。
地址 日本