发明名称 溅镀用标靶材之制造方法
摘要 本发明为一种溅镀用标靶材的制造方法,藉由电解方式从贵金属盐与溶媒盐构成之混合熔融盐之中,析出贵金属或贵金属合金。根据本发明,可使制造步骤单纯化,而制造高纯度的标靶材。再者,利用800℃以上贵金属的熔点以下之温度,将电解析出之贵金属或贵金属合金进行加热处理,可制造纯度更高的标靶材。
申请公布号 TW500816 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW088115094 申请日期 1999.09.02
申请人 田中贵金属工业股份有限公司 发明人 原范明;枪田聪明;萩原谦;松律也
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种溅镀用标靶材的制造方法,其特征在于:藉由电解方式从铱盐或钌盐贵金属盐与溶媒盐构成之混合熔融盐之中,析出铱或钌贵金属或铱或钌贵金属合金以制造溅镀用标靶材。2.如申请专利范围第1项所记载之溅镀用标靶材的制造方法,其中上述溶媒盐系氯化钠、氯化钾、与氯化铯之混合物。3.一种溅镀用标靶材的制造方法,其特征在于:利用800℃以上铱或钌贵金属的熔点以下之温度,将利用申请专利范围第1-2项任一项所记载的方法电解析出之铱或钌贵金属或铱或钌贵金属合金进行加热处理。4.一种溅镀用标靶材的制造方法,其特征在于:利用真空环境、800℃以上贵金属的熔点以下之温度,将利用申请专利范围第1-2项任一项所记载的方法电解析出之铱或钌贵金属或铱或钌贵金属合金进行加热处理以去除硷金属不纯物。图式简单说明:第1图显示本发明实施形态之熔融盐电解装置的构造概略图。
地址 日本