| 主权项 |
1.一种涂布装置,其特征在于包含有:保持构件,系用以保持基板者;喷嘴,系列设有多数吐出孔,其等多数吐出孔系用以朝前述业已保持之基板上吐出涂布液者;及扫描机构,系用以使前述喷嘴于前述业已保持之基板上行扫描动作者。2.如申请专利范围第1项之涂布装置,其系更包含有一角度调节机构,系用以调整藉前述扫描机构而行扫描动作之喷嘴之扫描方向及于前述喷嘴上所列设之吐出孔之列设方向所形成之角度者。3.如申请专利范围第2项之涂布装置,其系并包含有下列机构,即:一用以至少将前述涂布液之黏度数据及前述基板表面之接触角数据输入;及一用以根据前述输入后之数据,算出前述喷嘴之扫描方向及前述吐出孔之列设方向所形成之角度,按计算结果而藉前述角度调节机构以调整该角度。4.如申请专利范围第3项之涂布装置,其系并具有一用以根据输入后之数据,算出由前述吐出孔所吐出之涂布液之吐出压之机构。5.如申请专利范围第3项之涂布装置,其系并具有一用以根据前述输入后之数据,算出前述喷嘴之扫描速度之机构。6.如申请专利范围第1项之涂布装置,系更包含有一遮蔽构件,该遮蔽构件系插入于位于前述基板表面之涂布液之涂布禁止领域与使前述喷嘴进行扫描之扫描领域相重复之重复领域上之前述基板及前述喷嘴间。7.如申请专利范围第6项之涂布装置,其中该遮蔽构件系具有一延伸至前述基板外侧且往下倾斜之倾斜面。8.如申请专利范围第7项之涂布装置,其更包含有一用以将洗净液由前述遮蔽构件之倾斜面之上部朝下部流动之机构。9.如申请专利范围第8项之涂布装置,其更包含有:回收路,系用以回收前述洗净液者,系沿着延伸至前述基板外侧所形成之倾斜面之端边设置者;及一用以将经前述回收路回收之洗净液过滤,以为前述洗净液作再利用之机构。10.如申请专利范围第2项之涂布装置,其中该喷嘴系于前述基板之同一面内,藉前述角度调节机构而改变前述角度,再行扫描动作者。11.如申请专利范围第10项之涂布装置,其系使欲扫描前述基板端部之前述喷嘴的角度与欲扫描前述基板中央部之前述喷嘴的角度不同者。图式简单说明:第1图系本发明第1实施形态之涂布显影处理系统之立体图。第2图系显示第1图中所示之涂布显影处理系统之涂布装置之构造之立体图。第3图系显示第2图中所示之涂布装置之涂布头之构造之立体图。第4图系显示第2图中所示之涂布头之扫描例之概略平面图。第5图系第2图中所示之涂布头上之涂布间距之说明图(其一形态)。第6图系第2图中所示之涂布头上之涂布间距之说明图(其二形态)。第7图系第2实施形态之说明图。第8图系第2实施形态之涂布装置之平面图。第9图系第8图中所示之涂布装置之侧面图。第10图系第8图中所示之涂布装置之立体图。第11图系第3实施形态之涂布装置之侧面图。第12图系第1实施形态之涂布装置之概略侧面图。第13图系显示第4实施形态之涂布头之扫描例之概略平面图。 |
