发明名称 部分还原特定金属氧化物之方法及氧减少金属氧化物
摘要 描述一种至少部分还原阀金属氧化物(valve metal oxide)的方法,其中,此方法包含在有吸气材料存在时,于能够使得起始金属氧化物中的氧原子转移至吸气材料的环境中,热处理此阀金属氧化物达足够的时间和温度,以形成氧减少的阀金属氧化物。亦描述阀金属氧化物和/或其低氧化物及含有由此阀金属氧化物和其低氧化物制得之阳极的电容器。
申请公布号 TW500696 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW088116002 申请日期 1999.09.16
申请人 客宝公司 发明人 詹姆士A.富夫
分类号 C01G1/02;C01G35/00;C01G33/00 主分类号 C01G1/02
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种至少部分还原含一阀金属氧化物之金属氧 化物的方法,其中,该方法包含在有吸气材料存在 时,于能够使得起始阀金属氧化物中的氧原子转移 至吸气材料的环境中,热处理此阀金属氧化物达足 够的时间和温度,以形成氧减少的金属氧化物。2. 根据申请专利范围第1项之方法,其中,阀金属氧化 物是氧化钽。3.根据申请专利范围第1项之方法,其 中,阀金属氧化物是氧化钽,而氧减少的金属氧化 物是钽低氧化物。4.根据申请专利范围第1项之方 法,其中,氧减少的金属氧化物的金属和氧之比例 是1:低于2.5。5.根据申请专利范围第1项之方法,其 中,氧减少的金属氧化物之氧含量低于使金属完全 氧化的化学计量。6.根据申请专利范围第1项之方 法,其中,氧减少的金属氧化物具有微多孔结构。7. 根据申请专利范围第1项之方法,其中,氧减少的金 属氧化物具50%的孔隙体积。8.根据申请专利范围 第1项之方法,其中,氢气氛以10托耳至2000托耳之量 存在。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中,吸 气材料包含氢化钽颗粒。10.根据申请专利范围第2 项之方法,其中,吸气材料包含电容器级钽。11.根 据申请专利范围第1项之方法,其中,吸气材料是14/ 40网目之氢化钽颗粒。12.根据申请专利范围第1项 之方法,其中,该气氛是氢气氛。13.根据申请专利 范围第1项之方法,其中,该热处理是于1000℃至1300 ℃进行10至90分钟。14.根据申请专利范围第2项之 方法,其中,该吸气材料是钽。15.一种金属氧化物 粉末,包含金属与氧之原子比为1:低于2.5的阀金属 氧化物粉末。16.根据申请专利范围第15项之金属 氧化物粉末,其中,比例是1:低于2.0。17.根据申请专 利范围第15项之金属氧化物粉末,其中,比例是1:低 于1.5。18.根据申请专利范围第15项之金属氧化物 粉末,其中,比例是1:0.167或2:2.2。19.根据申请专利 范围第15项之金属氧化物粉末,其中,比例是1:1。20. 根据申请专利范围第15项之金属氧化物粉末,其中, 比例是1:0.5。21.根据申请专利范围第15项之金属氧 化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉末是氧化钽。22 .根据申请专利范围第16项之金属氧化物粉末,其中 ,该阀金属氧化物粉末是氧化钽。23.根据申请专利 范围第17项之金属氧化物粉末,其中,该阀金属氧化 物粉末是氧化钽。24.根据申请专利范围第18项之 金属氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉末是氧 化钽。25.根据申请专利范围第19项之金属氧化物 粉末,其中,该阀金属氧化物粉末是氧化钽。26.根 据申请专利范围第20项之金属氧化物粉末,其中,该 阀金属氧化物粉末是氧化钽。27.根据申请专利范 围第15项之金属氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物 粉末是氧化铝。28.根据申请专利范围第16项之金 属氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉末是氧化 铝。29.根据申请专利范围第17项之金属氧化物粉 末,其中,该阀金属氧化物粉末是氧化铝。30.根据 申请专利范围第18项之金属氧化物粉末,其中,该阀 金属氧化物粉末是氧化铝。31.根据申请专利范围 第19项之金属氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉 末是氧化铝。32.根据申请专利范围第20项之金属 氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉末是氧化铝 。33.根据申请专利范围第15项之金属氧化物粉末, 其中,该阀金属氧化物粉末具有多孔结构。34.根据 申请专利范围第15项之金属氧化物粉末,其中,该阀 金属氧化物粉末具有由0.1至10微米孔洞的多孔结 构。35.根据申请专利范围第15项之金属氧化物粉 末,其中,该阀金属氧化物粉末被制成电解用电容 器阳极。36.根据申请专利范围第35项之金属氧化 物粉末,其中,该阳极的DC漏失为0.5至5毫微安培/CV 。37.根据申请专利范围第15项之金属氧化物粉末, 其中,该阀金属氧化物粉末包含结节状、片状、角 形或其组合。38.根据申请专利范围第15项之金属 氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉末具0.5至10.0 平方公尺/公克之比表面积。39.根据申请专利范围 第38项之金属氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉 末具0.5至2.0平方公尺/公克之比表面积。40.根据申 请专利范围第39项之金属氧化物粉末,其中,该阀金 属氧化物粉末具1.0至1.5平方公尺/公克之比表面积 。41.根据申请专利范围第15项之金属氧化物粉末, 其中,该阀金属氧化物粉末具低于2.0克/毫升之表 观密度。42.根据申请专利范围第41项之金属氧化 物粉末,其中,该阀金属氧化物粉末具低于1.5克/毫 升之表观密度。43.根据申请专利范围第42项之金 属氧化物粉末,其中,该阀金属氧化物粉末具0.5至1. 5克/毫升之表观密度。44.一种金属氧化物,其包含 选自铝、钛、锆、铌及/或其合金之氧化物之阀金 属氧化物,其具有金属与氧之原子比为1:低于2.5。 45.一种电容器阳极,其包含一金属氧化物,其中该 金属氧化物包含具有金属与氧之原子比为1:低于2. 5之阀金属氧化物。46.根据申请专利范围第45项之 电容器阳极,其中,该金属氧化物是氧化钽。47.根 据申请专利范围第45项之电容器阳极,其中,该金属 氧化物是氧化铝。48.一种制造电容器阳极的方法, 包含制造金属氧化物丸粒及在有吸气材料存在时, 于能够使得起始阀金属氧化物中的氧原子转移至 吸气材料的环境中,热处理此丸粒达足够的时间和 温度,以形成包含氧减少的金属氧化物之电极体, 然后对其施以阳极化处理,以形成电容器阳极,其 中,该金属氧化物包含阀金属氧化物。49.根据申请 专利范围第48项之方法,其中,该金属氧化物是氧化 铝。50.根据申请专利范围第48项之方法,其中,该金 属氧化物是氧化钽。图式简单说明: 附图1-14是本发明的多个氧减少的阀金属氧化物于 不同放大倍数下得到的SEM。
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