| 主权项 |
1.一种臭氧溶解水之制造装置,其特征为具有(A)供 给超纯水的超纯水供给配管,(B)连接于超纯水供给 配管,使超纯水和氧化还原触媒接触的触媒反应部 ,(C)过滤经过触媒反应部超纯水的过滤装置及(D)使 臭氧水溶解于从过滤装置所排出之超纯水的臭氧 溶解装置。2.如申请专利范围第1项之臭氧溶解水 之制造装置,其中所供给的超纯水,系以具有紫外 线照射装置的超纯水制造装置而制得的超纯水。3 .如申请专利范围第1项之臭氧溶解水之制造装置, 其中氧化还原触媒,系钯载体触媒。4.如申请专利 范围第1项之臭氧溶解水之制造装置,其中触媒反 应部系触媒填充塔。5.如申请专利范围第1项之臭 氧溶解水之制造装置,其中过滤装置系具备超过滤 膜,微细过滤膜或逆渗透膜之装置。6.如申请专利 范围第1项之臭氧溶解水之制造装置,其中臭氧溶 解装置系具备发射器。7.一种臭氧溶解水之制造 装置,系具备紫外线照射装置的超纯水制造装置, 该制造超纯水之超纯水制造装置中,系具有溶解臭 氧使成为臭氧溶解水之制造装置,其特征为在紫外 线照射装置和臭氧溶解装置之间,装设填充氧化还 原触媒的触媒反应部。8.如申请专利范围第7项之 臭氧溶解水之制造装置,其中氧化还原触媒系钯载 体触媒。9.如申请专利范围第7项之臭氧溶解水之 制造装置,其中触媒反应部系触媒填充塔。10.如申 请专利范围第7项之臭氧溶解水之制造装置,其中 臭氧溶解装置系具备发射器的装置。图式简单说 明: 第1图系以和臭氧含有气体的气液混合状态送给臭 氧溶解水的臭氧溶解水供给装置的过程系统图。 第2图系超纯水制造系统一例的过程系统图。 第3图系本发明装置的一形态的过程系统图。 第4图系本发明装置(B)超纯水供给配管其他形态的 过程系统图。 第5图系本发明装置(C)触媒反应部其他形态的过程 系统图。 第6图系本发明装置(C)触媒反应部其他形态的过程 系统图。 第7图系本发明装置(E)臭氧溶解装置其他形态的过 程系统图。 第8图系本发明装置(E)臭氧溶解装置其他形态的过 程系统图。 第9图系在超纯水制造装置的辅助系统装设触媒反 应部及过滤装置的例。 |
