发明名称 –亚甲基––羟基酸酯衍生物之制法及使用该衍生物的乙烯之催化聚合或共聚合之方法与促进剂─触媒化合物
摘要 一种制备2-烯含量高之卤-丁-2-烯酸及酯之衍生物之方法,其中数种为新颖。酯及其衍生物可用作乙烯聚合或乙烯与α-烯烃以及选择性非共轭多烯共聚合之促进剂。促进剂也可组合过渡金属化合物例如钒而形成组合促进剂-触媒化合物。
申请公布号 TW500719 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW088117314 申请日期 1999.10.07
申请人 有利来路化学公司 发明人 范苏武;华特奴登伯格
分类号 C07C69/732;C07C67/307 主分类号 C07C69/732
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种制备式Ia或Ib之衍生物之方法: 其中 n为1至4之整数,其不超过指定R1或R5之键结能力; -E为 -G-为 X1系选自下列组群包含氢,卤原子及C1-C4烷氧基; X2及X3为卤原子; R1系选自下列组群包含氢、C1-C6醯基及C6-C10芳基; R2系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基或-COOR6 此处R6为C1-C18烷基,C3-C18烯基,C5-C6环烷基,C7-C9芳烷 基及C6-C10芳基; R3及R4分别选自下列组群包含氢、羟基、C1-C6醯氧 基及C1-C16烷基; R5系选自下列组群包含氢,C1-C18烷基,C6-C10芳基,C7-C9 烷芳基,C7-C9芳烷基,C3-C6烯基,C1-C18卤烷基,C6-C10卤 芳基,C7-C9卤烷芳基,C7-C9卤芳烷基;以及 A为氧; 其中该衍生物系经由酯与下列任一者反应合成: A)至少一种路易士酸或硷,及选择性化学计算量之 温和氢化物于无过渡金属触媒存在下反应,或, B)氢于选自下列组群之触媒存在下反应,包含过渡 金属或其氧化物,或 C)至少一种可溶性触媒选自下列组群包含烷基铝, 烷基氢化物,及可溶性镍或钯盐。2.如申请专利范 围第1项之方法,其中: X1,X2及X3为氯; R1系选自下列组群包含氢及乙醯基; R2系选自下列组群包含氢,氯,C1-C8烷基及-COOR6此处R 6为C1-C8烷基,基及苯基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C7烷基; R5系选自下列组群包含C1-C12烷基,苯基,甲苯基, 基,烯丙基,C1-C2卤烷基及卤苯基;以及 A为氧。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该酯 系选自下列组群包含2-亚甲基-3-羟-4,4,4-三氯丁酸 丁酯,2-亚甲基-3-乙醯氧-4,4,4-三氯丁酸丁酯,及2-亚 甲基-3-苯氧-4,4,4-三氯丁酸丁酯。4.如申请专利范 围第1项之方法,其包含酯与至少一种路易士酸或 硷以及选择性与化学计算量之温和氢化物于无过 渡金属触媒存在下反应。5.如申请专利范围第4项 之方法,其中该生成的衍生物具有结构式 其中 X1系选自下列组群包含氢,卤原子及C1-C4烷氧基; X2及X3为卤原子; Y系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基,C6-C10芳 基,C1-C6烷氧基,C1-C6醯氧基及氰基; R2系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基或-COOR6 此处R6为C1-C18烷基,C3-C18烯基,C5-C6环烷基,C7-C9芳烷 基及C6-C10芳基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C16烷基; R5系选自下列组群包含氢,C1-C18烷基,C6-C10芳基,C7-C9 烷芳基,C7-C9芳烷基,C3-C6烯基,C1-C18卤烷基,C6-C10卤 芳基,C7-C9卤烷芳基,C7-C9卤芳烷基;以及 A为氧。6.如申请专利范围第4项之方法,其中该路 易士酸或硷系选自下列组群包含氰化物,胺类,醯 胺类,醇类,烷氧化物,硫醇类,丙二酸酯类,锂烷基 铝类,烷基铝类,烷基锂类,葛丽亚(Grignard)反应剂, 铵卤化物,金属卤化物、无机卤化物,烷基铝氧烷 类,烷基铝氧化物,烷基铝卤化物,氢卤酸类,N-卤醯 亚胺类,周期表13-17族元素卤化物,亚磺醯卤类,硫 醯卤类,磺醯卤类,氧醛卤类,醯基卤类,酐类及芳烯 类。7.如申请专利范围第4项之方法,其中该温和氢 化物系选自下列组群包含硼氢化钠,硼氢化锂,硼 氢化钾,硼氢化四丁基铵,硼氢化钠-氯化铯错合物, 氰基硼氢化钠,三甲氧硼氢化钠,三乙醯氧硼氢化 钠,三丁氧硼氢化锂,乙醯氧硼氢化钠,硼氢化锌及 乙醯氧硼氢化锌。8.如申请专利范围第5项之方法, 其中: X1,X2及X3为氯; Y系选自下列组群包含氢,氯,溴及氰基; R2系选自下列组群包含氢,氯,C1-C8烷基及-COOR6此处R 6为C1-C8烷基,基及苯基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C7烷基; R5系选自下列组群包含C1-C12烷基,苯基,甲苯基, 基,烯丙基,C1-C2卤烷基及卤苯基;以及 A为氧。9.如申请专利范围第5项之方法,其中Y非为 氢,及该衍生物进一步与化学计算量之温和氢化物 于无过渡金属触媒存在下反应生成如下结构式之 衍生物: 其中 X1系选自下列组群包含氢,卤原子及C1-C4烷氧基; X2及X3为卤原子; R2系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基及-COOR6 此处R6为C1-C18烷基,C3-C18烯基,C5-C6环烷基,C7-C9芳烷 基或C6-C10芳基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C16烷基; R5系选自下列组群包含氢,C1-C18烷基,C6-C10芳基,C7-C9 烷芳基,C7-C9芳烷基,C3-C6烯基,C1-C18卤烷基,C6-C10卤 芳基,C7-C9卤烷芳基及C7-C9卤芳烷基;以及 A为氧。10.如申请专利范围第9项之方法,其中该温 和氢化物系选自下列组群包含硼氢化钠,硼氢化锂 ,硼氢化钾,硼氢化四丁基铵,硼氢化钠-氯化铯错合 物,氰基硼氢化钠,三甲氧硼氢化钠,三乙醯氧硼氢 化钠,三丁氧硼氢化锂,乙醯氧硼氢化钠,硼氢化锌 及乙醯氧硼氢化锌。11.如申请专利范围第9项之方 法,其中: X1,X2及X3为氯; R2系选自下列组群包含氢,氯,C1-C8烷基及-COOR6此处R 6为C1-C8烷基,基或苯基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C7烷基; R5系选自下列组群包含C1-C12烷基,苯基,甲苯基, 基,烯丙基,C1-C2卤烷基及卤苯基;以及 A为氧。12.如申请专利范围第1项之方法,其中该酯 系与氢于触媒存在下反应,该触媒系选自下列组群 包含过渡金属及其氧化物而生成如下结构式之衍 生物: 及 IVa,反式- IVb,顺式- 其中各符号具有如申请专利范围第1项定义之相同 意义;且 其中IVa反式对IVb顺式之比系大于1:1。13.一种乙烯 之催化聚合或共聚合方法,其中使用一种促进剂, 改良部分包含使用至少一种式Ia或Ib之衍生物之作 为促进剂: 或 Ia Ib 其中 n为1至4之整数,其不超过指定R1或R5之键结能力; -E为 -G-为 X1系选自下列组群包含氢,卤原子及C1-C4烷氧基; X2及X3为卤原子; R1系选自下列组群包含氢、C1-C6醯基及C6-C10芳基; R2系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基或-COOR6 此处R6为C1-C18烷基,C3-C18烯基,C5-C6环烷基,C7-C9芳烷 基及C6-C10芳基; R3及R4分别选自下列组群包含氢、羟基、C1-C6醯氧 基及C1-C16烷基; R5系选自下列组群包含氢,C1-C18烷基,C6-C10芳基,C7-C9 烷芳基,C7-C9芳烷基,C3-C6烯基,C1-C18卤烷基,C6-C10卤 芳基,C7-C9卤烷芳基,C7-C9卤芳烷基;以及 A为氧; 其中该衍生物系经由酯与下列任一者反应合成: A)至少一种路易士酸或硷,及选择性化学计算量之 温和氢化物于无过渡金属触媒存在下反应,或 B)氢于选自下列组群之触媒存在下反应,包含过渡 金属或其氧化物,或 C)至少一种可溶性触媒选自下列组群包含烷基铝, 烷基氢化物,及可溶性镍或钯盐。14.如申请专利范 围第13项之方法,其中: X1,X2及X3为氯; R1系选自下列组群包含氢及乙醯基; R2系选自下列组群包含氢,氯,C1-C8烷基及-COOR6此处R 6为C1-C8烷基,基及苯基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C7烷基; R5系选自下列组群包含C1-C12烷基,苯基,甲苯基, 基,烯丙基,C1-C2卤烷基及卤苯基;以及 A为氧。15.如申请专利范围第13项之方法,其中该酯 系选自下列组群包含2-亚甲基-3-羟-4,4,4-三氯丁酸 丁酯,2-亚甲基-3-乙醯氧-4,4,4-三氯丁酸丁酯,及2-亚 甲基-3-苯氧-4,4,4-三氯丁酸丁酯。16.如申请专利范 围第13项之方法,其包含使用一种衍生物,该衍生物 系于酯已经与至少一种路易士酸或硷反应以及选 择性与化学计算量之温和氢化物于无过渡金属触 媒存在下反应生成。17.如申请专利范围第16项之 方法,其中该生成的衍生物具有结构式 或 IIa IIb 其中 X1系选自下列组群包含氢,卤原子及C1-C4烷氧基; X2及X3为卤原子; Y系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基,C6-C10芳 基,C1-C6烷氧基,C1-C6醯氧基及氰基; R2系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基或-COOR6 此处R6为C1-C18烷基,C3-C18烯基,C5-C6环烷基,C7-C9芳烷 基及C6-C10芳基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C16烷基; R5系选自下列组群包含氢,C1-C18烷基,C6-C10芳基,C7-C9 烷芳基,C7-C9芳烷基,C3-C6烯基,C1-C18卤烷基,C6-C10卤 芳基,C7-C9卤烷芳基,C7-C9卤芳烷基;以及 A为氧。18.如申请专利范围第16项之方法,其中该路 易士酸或硷系选自下列组群包含氰化物,胺类,醯 胺类,醇类,烷氧化物,硫醇类,丙二酸酯类,锂烷基 铝类,烷基铝类,烷基锂类,葛丽亚(Grignard)反应剂, 铵卤化物,金属卤化物,无机卤化物,烷基铝氧烷类, 烷基铝氧化物,烷基铝卤化物,氢卤酸类,N-卤醯亚 胺类,周期表13-17族元素卤化物,亚磺醯卤类,硫醯 卤类,磺醯卤类,氧醛卤类,醯基卤类,酐类及芳烯类 。19.如申请专利范围第16项之方法,其中该温和氢 化物系选自下列组群包含硼氢化钠,硼氢化锂,硼 氢化钾,硼氢化四丁基铵,硼氢化钠-氯化铯错合物, 氰基硼氢化钠,三甲氧硼氢化钠,三乙醯氧硼氢化 钠,三丁氧硼氢化锂,乙醯氧硼氢化钠,硼氢化锌及 乙醯氧硼氢化锌。20.如申请专利范围第17项之方 法,其中: X1,X2及X3为氯; Y系选自下列组群包含氢,氯,溴及氰基; R2系选自下列组群包含氢,氯,C1-C8烷基及-COOR6此处R 6为C1-C8烷基,基及苯基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C7烷基; R5系选自下列组群包含C1-C12烷基,苯基,甲苯基, 基,烯丙基,C1-C2卤烷基及卤苯基;以及 A为氧。21.如申请专利范围第17项之方法,其中Y非 为氢,以及使用作为促进剂的衍生物进一步与化学 计算量之温和氢化物于无过渡金属触媒存在下生 成如下结构式之衍生物: 或 IIIa IIIb 其中 X1系选自下列组群包含氢,卤原子及C1-C4烷氧基; X2及X3为卤原子; R2系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基及-COOR6 此处R6为C1-C18烷基,C3-C18烯基,C5-C6环烷基,C7-C9芳烷 基或C6-C10芳基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C16烷基; R5系选自下列组群包含氢,C1-C18烷基,C6-C10芳基,C7-C9 烷芳基,C7-C9芳烷基,C3-C6烯基,C1-C18卤烷基,C6-C10卤 芳基,C7-C9卤烷芳基及C7-C9卤芳烷基;以及 A为氧。22.如申请专利范围第21项之方法,其中该温 和氢化物系选自下列组群包含硼氢化钠,硼氢化锂 ,硼氢化钾,硼氢化四丁基铵,硼氢化钠-氯化铯错合 物,氰基硼氢化钠,三甲氧硼氢化钠,三乙醯氧硼氢 化钠,三丁氧硼氢化锂,乙醯氧硼氢化钠,硼氢化锌 及乙醯氧硼氢化锌。23.如申请专利范围第21项之 方法,其中: X1,X2及X3为氯; R2系选自下列组群包含氢,氯,C1-C8烷基及-COOR6此处R 6为C1-C8烷基,基或苯基; R3及R4分别选自下列组群包含氢及C1-C7烷基; R5系选自下列组群包含C1-C12烷基,苯基,甲苯基, 基,烯丙基,C1-C2卤烷基及卤苯基;以及 A为氧。24.如申请专利范围第21项之方法,其中该促 进剂为衍生物,系由酯与氢于一种触媒存在下反应 生成,该触媒系选自下列组群包含过渡金属及其氧 化物且具有结构式: 或 IVa,反式- IVb,顺式- 其中各符号具有如申请专利范围第13项定义之相 同意义。25.一种乙烯之催化聚合或共聚合方法,其 中使用一种促进剂,其改良部分包含使用选自下列 组群之一种酯作为促进剂,该组群包含2-亚甲基-3,4 ,4,4-四氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-溴-4,4,4-三氯丁酸酯 类,2-亚甲基-3-羟-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-乙 醯氧-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-甲醯氧-4,4,4- 三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-苯氧-4,4,4-三氯丁酸酯类 ,2-亚甲基-3-乙氧-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-亚甲基 -3-甲氧-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-异丙氧-4,4,4 -三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-乙氧-4,4,4-三氯丁酸酯 类,2-亚甲基-3-丁氧-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3- 氰基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-氯甲基-4,4,4-三氯丁-2- 烯酸酯类,2-溴甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-羟甲 基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-苯氧甲基-4,4,4-三氯 丁-2-烯酸酯类,2-乙醯氧甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯 类,2-甲醯氧甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-甲氧甲 基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-乙氧甲基-4,4,4-三氯 丁-2-烯酸酯类,2-异丙氧甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯 类,2-丁氧甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-氰基甲基 -4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-羟亚甲基- 4,4,4-三氯丁酸酯类,2-乙醯氧亚甲基-4,4,4-三氯丁酸 酯类,2-甲醯氧亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-氯亚甲 基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-溴亚甲基-4,4,4-三氯丁酸 酯类,2-氰基亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-乙氧亚甲 基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-异丙氧亚甲基-4,4,4-三氯 丁酸酯类,2-丁氧亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲 基-4,4,4-三氯丁酸酯类,及2-甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯 酸酯类。26.如申请专利范围第25项之方法,其中该 酯为丁基酯。27.如申请专利范围第26项之方法,其 中该酯为2-甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸丁酯。28.一种 乙烯之催化聚合或共聚合用之促进剂-触媒化合物 ,具有结构式 M(O)rXm(促进剂-负H)n 其中: M为过渡金属阳离子; X为卤阴离子; r为0-3; m为0-6; n为1-7; r+m+n之最大和为7;以及 促进剂为如下结构式之酯 或 Ia Ib 其中 n为1至4之整数,其不超过指定R1或R5之键结能力; -E为 -G-为 X1系选自下列组群包含氢,卤原子及C1-C4烷氧基; X2及X3为卤原子; R1系选自下列组群包含氢、C1-C6醯基及C1-C10芳基; R2系选自下列组群包含氢,卤原子,C1-C16烷基或-COOR6 此处R6为C1-C18烷基,C3-C18烯基,C5-C6环烷基,C7-C9芳烷 基及C6-C10芳基; R3及R4分别选自下列组群包含氢、羟基、C1-C6醯氧 基及C1-C16烷基; R5系选自下列组群包含氢,C1-C18烷基,C6-C10芳基,C7-C9 烷芳基,C7-C9芳烷基,C3-C6烯基,C1-C18卤烷基,C6-C10卤 芳基,C7-C9卤烷芳基,C7-C9卤芳烷基;以及 A为氧; 或其酯,该促进剂系经由一种方法制备,该方法包 含该酯与下列任一者反应: A)至少一种路易士酸或硷,及选择性化学计算量之 温和氢化物于无过渡金属触媒存在下反应,或 B)氢于选自下列组群之触媒存在下反应,包含过渡 金属或其氧化物,或 C)至少一种可溶性触媒选自下列组群包含烷基铝, 烷基氢化物,及可溶性镍或钯盐。29.一种乙烯之触 媒聚合或共聚合用之促进剂-触媒化合物,具有结 构式 M(O)rXm(促进剂-负H)n 其中: M为过渡金属阳离子; X卤阴离子; r为0-3; m为0-6; n为1-7; r+m+n之最大和为7;以及 促进剂为一种选自下列组群之酯,该组群包含2-亚 甲基-3,4,4,4-四氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-溴-4,4,4-三氯 丁酸酯类,2-亚甲基-3-羟-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲 基-3-乙醯氧-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-甲醯氧 -4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-苯氧-4,4,4-三氯丁 酸酯类,2-亚甲基-3-乙氧-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2- 亚甲基-3-甲氧-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-异丙 氧-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-3-乙氧-4,4,4-三氯 丁酸酯类,2-亚甲基-3-丁氧-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-亚 甲基-3-氰基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-氯甲基-4,4,4-三 氯丁-2-烯酸酯类,2-溴甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类 ,2-羟甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-苯氧甲基-4,4,4 -三氯丁-2-烯酸酯类,2-乙醯氧甲基-4,4,4-三氯丁-2- 烯酸酯类,2-甲醯氧甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2- 甲氧甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-乙氧甲基-4,4,4 -三氯丁-2-烯酸酯类,2-异丙氧甲基-4,4,4-三氯丁-2- 烯酸酯类,2-丁氧甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-氰 基甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类,2-羟亚甲基-4,4,4- 三氯丁酸酯类,2-乙醯氧亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类 ,2-甲醯氧亚甲基-4,4,4 -三氯丁酸酯类,2-氯亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2- 溴亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-氰基亚甲基-4,4,4- 三氯丁酸酯类,2-乙氧亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2- 异丙氧亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,2-丁氧亚甲基-4, 4,4-三氯丁酸酯类,2-亚甲基-4,4,4-三氯丁酸酯类,及2 -甲基-4,4,4-三氯丁-2-烯酸酯类。30.如申请专利范 围第29项之方法,其中该酯为丁基酯。31.如申请专 利范围第30项之方法,其中该酯为2-甲基-4,4,4-三氯 丁-2-烯酸丁酯。32.一种制备下式化合物之方法: 或 IIIa IIIb 该方法包含下式化合物: 或 IVa,反式- IVb,顺式- 与催化至化学计算量之温和硷反应; 其中各符号具有如申请专利范围第24项定义之相 同意义。33.如申请专利范围第32项之方法,其中该 温和硷为硷金属碳酸氢盐。34.如申请专利范围第 33项之方法,其中该硷金属碳酸氢盐为碳酸氢钾。 35.如申请专利范围第32项之方法,其中该反应系于 温和温热下进行。36.如申请专利范围第32项之方 法,其中式IVa及IVb之R1为C1-C6醯基。
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