| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR VACUUM TREATMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JP2002246280(A) |
申请公布日期 |
2002.08.30 |
| 申请号 |
JP20010384743 |
申请日期 |
2001.12.18 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI INDUSTRIES CO LTD |
发明人 |
NISHIHATA KOJI;SHIROO KAZUHIRO;IKUHARA SHIYOUJI;TAWARA TETSUYA;OKIGUCHI MASASHI |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/02;H01L21/3065;H01L21/677;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/02;H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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