| 发明名称 |
Discharge plasma generating method, discharge plasma generating apparatus, semiconductor device fabrication method, and semiconductor device fabrication apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU751927(B2) |
申请公布日期 |
2002.08.29 |
| 申请号 |
AU20010011108 |
申请日期 |
2001.01.09 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. |
发明人 |
HIDEO YAMAKOSHI;KOJI SATAKE;YOSHIAKI TAKEUCHI;HIROSHI MASHIMA;TATSUFUMI AOI;MASAYOSHI MURATA |
| 分类号 |
H01L21/205;H01J37/32;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/31;H01L21/306;C23C4/00;C23C16/50 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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