| 发明名称 |
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM CHEMISCHEN BEHANDLEN VON MIKROELEKTRONISCHEN SCHEIBEN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69902239(D1) |
申请公布日期 |
2002.08.29 |
| 申请号 |
DE19996002239 |
申请日期 |
1999.03.09 |
| 申请人 |
S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES, BERNIN |
发明人 |
LAMURE, JEAN-MICHEL |
| 分类号 |
H01L21/677;B65G49/07;H01L21/00;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/673;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/677 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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