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Beleuchtungssystem (1) insbesondere für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer optischen Achse (OA). Das Beleuchtungssystem (1) umfaßt einen Stabintegrator (3) und ein nachfolgendes Objektiv (11) zur Abbildung eines Objektfeldes (13) auf ein Bildfeld (15). Der Stabintegrator (3) weist eine Eintrittsfläche (5) und eine Austrittsfläche (7) mit einer Breite und einer Höhe, sowie reflektierende Seitenflächen (9) auf. In dem Objektiv (11) befindet sich ein linsenfreier Zwischenraum (17) mit einer axialen Dicke (dLF) von mindestens 30mm. Innerhalb dieses Zwischenraums befindet sich eine Ebene, die optisch konjugiert zur Ebene der Eintrittsfläche (5) ist. Alle Strahlen (21), welche von einem zentralen Feld (19) innerhalb der Eintrittsfläche (5) des Stabintegrators (3) ausgehen und nicht an den Seitenflächen (9) reflektiert werden, weisen in dem linsenfreien Zwischenraum (17) geringere Strahlhöhen in Bezug auf die optische Achse (OA) auf als alle Strahlen (23), die von dem gleichen zentralen Feld (19) ausgehen und an den Seitenflächen (9) reflektiert werden, wobei das zentrale Feld (19) eine Feldbreite und eine Feldhöhe aufweist und das Verhältnis der Feldbreite zur Breite der Eintrittsfläche (5) maximal 0,7, insbesondere maximal 0,5, und das Verhältnis der Feldhöhe zur Höhe der Eintrittsfläche (5) maximal 0,7, insbesondere maximal 0,5, beträgt. <IMAGE>
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