| 发明名称 | 防水性多孔二氧化硅、其制备方法和用途 | ||
| 摘要 | 合成的孔隙均匀的防水性多孔二氧化硅,该二氧化硅包括硅石骨架,其中氟原子通过共价键固定,并且碱金属含量不超过10ppb。用该防水性多孔二氧化硅,防水性多孔二氧化硅膜具有均匀的孔隙,适用于光功能性材料或电子功能性材料,还提供了该物质的制备方法,和它的用途。 | ||
| 申请公布号 | CN1366509A | 申请公布日期 | 2002.08.28 |
| 申请号 | CN01801051.2 | 申请日期 | 2001.04.26 |
| 申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 高村一夫;冈部晃博;漥田武司;蔵野義人;村上雅美 |
| 分类号 | C01B33/12;C09D183/02;C09D183/08;H01L21/316;H01L21/312 | 主分类号 | C01B33/12 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 沙永生 |
| 主权项 | 1.防水性多孔二氧化硅，它的孔隙均匀，它含有通过共价键固定在硅石骨架中的氟原子，并且碱金属含量不超过10ppb。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||