| 摘要 |
<p>본 발명은 요소(尿素) 및 N-치환 아미노술폰산을 함유하는 조성물에 관한 것이다. 사용되는 N-치환 아미노술폰산은 바람직하게는 6 내지 7.83 의 pKa 범위를 가지며 본 발명에 따른 조성물의 pH 는 바람직하게는 약 7 이다. 요소는, 특히 미용 및/또는 피부과학 분야에서, 사용하고자 하는 상기 조성물에 안정하게 유지된다. 본 발명은 또한 사람의 피부, 점막 및/또는 케라틴섬유의 케어, 트리트먼트 및/또는 보호, 특히 피부 보습과 건조한 피부의 트리트먼트를 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.</p> |
