| 发明名称 |
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JP2002237511(A) |
申请公布日期 |
2002.08.23 |
| 申请号 |
JP20010032651 |
申请日期 |
2001.02.08 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KITSUNAI HIROYUKI;IIJIMA YASUHARU;FUKAYA KAZUHIDE |
| 分类号 |
B65G49/00;C23C16/44;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/677;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/68;H01L21/306 |
主分类号 |
B65G49/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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