发明名称 PLASMA APPARATUS AND PRODUCTION METHOD THEREOF
摘要 <p>L'invention concerne un appareil à plasma comprenant un récipient (11) pourvu d'une ouverture, un élément diélectrique (13) appuyé sur une surface d'extrémité périphérique de l'ouverture du récipient (11) et fermant l'ouverture, des organes d'alimentation de champ électromagnétique servant à générer un champ électromagnétique à l'intérieur du récipient (11) via l'élément diélectrique (13), et un élément (12) de protection destiné à recouvrir la partie périphérique de l'élément diélectrique (13) et à protéger le champ électromagnétique. La distance L1 de la surface intérieure du récipient (11) à la surface d'extrémité du récipient (11) jusqu'à la surface intérieure de l'élément (12) de protection est d'approximativement N/2 (N est un entier supérieur ou égal à zéro) de la longueur d'onde du champ électromagnétique dans une région (18) entourée par la surface d'extrémité du récipient (11), les organes d'alimentation du champ magnétique, et l'élément (12) de protection.</p>
申请公布号 WO2002065533(P1) 申请公布日期 2002.08.22
申请号 JP2002001287 申请日期 2002.02.15
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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