| 主权项 |
1.一种光学邻近效应修正法,该方法至少包括:提供一布局图案,该布局图案至少包括一图形;检查该布局图案各图形之尺寸宽度;当该布局图案之该图形的尺寸宽度小于曝光光源之波长时,加入一辅助图案至该布局图案;以及对已加入该辅助图案之该布局图案,进行模拟式光学邻近效应修正法之修正计算。2.如申请专利范围第1项所述之光学邻近效应修正法,其中对已插入该辅助图案之该布局图案,进行模拟式光学邻近效应修正法之修正计算时,只针对该布局图案作修正计算,并不对该辅助图案做修正计算。3.如申请专利范围第1项所述之光学邻近效应修正法,其中该辅助图案可以定义与该布局图案为同一层,或定义为位在不同层。4.如申请专利范围第1项所述之光学邻近效应修正法,其中对已插入该辅助图案之该布局图案,进行模拟式光学邻近效应修正法之修正计算的步骤,至少包括:利用一模拟器,检查该布局图案各部分在该模拟器的座标系统下之参考指标;该模拟器根据该布局图案各部分在该模拟器的座标系统下之参考指标,决定该布局图案修正之尺寸大小及位置;以及完成修正该布局图案。5.如申请专利范围第1项所述之光学邻近效应修正法,其中该辅助图案为一散射条。6.如申请专利范围第1项所述之光学邻近效应修正法,其中在进行模拟式光学邻近效应修正法之修正计算的步骤之后,又包括一步骤把修正所得之该布局图案以及添加之辅助图案制成一光罩。7.一种以电脑模拟器辅助之光罩设计方法,该方法至少包括:提供一布局图案,该布局图案至少包括一图形;检查该布局图案各图形之尺寸宽度;当该布局图案之该图形的尺寸宽度小于曝光光源之波长时,加入一辅助图案至该布局图案;对已加入该辅助图案之该布局图案,进行模拟式光学邻近效应修正法之修正计算;以及利用修正的该布局图案来制作一光罩。8.如申请专利范围第7项所述之以电脑模拟器辅助之光罩设计方法,其中对已插入该辅助图案之该布局图案,进行模拟式光学邻近效应修正法之修正计算时,只针对该布局图案作修正计算,并不对该辅助图案做修正计算。9.如申请专利范围第7项所述之以电脑模拟器辅助之光罩设计方法,其中该辅助图案(如散射条)可以与该布局图案定义为同一层,或定义为位在不同层。10.如申请专利范围第7项所述之以电脑模拟器辅助之光罩设计方法,其中对已插入该辅助图案之该布局图案,进行模拟式光学邻近效应修正法之修正计算的步骤,至少包括:利用一电脑模拟器,检查该布局图案各部分在该电脑模拟器的座标系统下之参考指标;根据该布局图案各部分在该电脑模拟器的座标系统下之参考指标,决定该布局图案修正之尺寸大小及位置;以及完成修正该布局图案。11.如申请专利范围第7项所述之以电脑模拟器辅助之光罩设计方法,其中该辅助图案为一散射条。图式简单说明:第1图绘示出习知中,经由基准式光学邻近效应修正(Rule-based OPC)后的图案。第2图绘示出习知中,经由模拟式光学邻近效应修正(Model-based OPC)后的图案。第3图绘示出本发明中,经由依照一较佳实施例的光学邻近效应修正后的图案。第4图绘示出本发明中,依照一较佳实施例的光学邻近效应修正法的流程图。 |
