| 主权项 |
1.一种微型显示器之间隙柱组成方法,其步骤包含有:(A)晶片表面镀上透明非导电材料层,在构成微型显示器的晶片表面镀上一层透明非导电材料层,是在晶片完成最后之金属反射层制程后进行;(B)预先安排间隔柱位置于光罩,在于对应R、G、B三原色的微型显示器的光罩上,预先安排各间隙柱的位置,以若干遮罩位置为间隙柱形成的位置之设定,并使各微型显示器间的各间隙柱安排位置为相互错开不重叠;(C)以光罩对透明非导电材料层进行光蚀刻,由上述步骤(B)已作间隙柱130位置安排的各个光罩,对相对应的R、G、B三原色的微型显示器进行光蚀刻的制程,使该透明非导电材料层在间隙柱安排位置以外的部份全部去除,以及;(D)间隙柱形成,在完成步骤(C)的光蚀刻过程后,在原先各R、G、B三原色微型显示器中相对应步骤(B)光罩的遮罩位置上形成有若干位置不相重叠的间隙柱。2.如申请专利范围第1项所述之微型显示器之间隙柱组成方法,其中,该步骤(A)的透明非导电材料层为氧化矽系列材料。3.如申请专利范围第2项所述之微型显示器之间隙柱组成方法,其中,该氧化矽系列的透明电材料层为二氧化矽。4.如申请专利范围第1项所述之微型显示器之间隙柱组成方法,其中,该步骤(B)的光罩安排间隙柱的位置及步骤(D)间隙柱形成于微型显示器上的位置为非像素区域。图式简单说明:第一图系本发明之间隙柱组成方法流程图;第二图为一剖视放大图,显示在晶片表面的金属反射层上镀上一层透明非导电材料之制程;第三图为一俯视图,显示光罩上对R、G、B三原色微型显示器的间隙柱位置错开安排的情形;第四图为一剖视放大图,显示本发明之间隔柱形成于像素间隔区的情形;第五图为一俯视图,显示本发明R、G、B三原色微型显示器中的间隔柱位置相互错开不重叠的情形;第六图为习知微型显示器之结构示意图之一;第七图为习知微型显示器之结构示意图之二; |
