发明名称 可为正型光阻剂的聚合物
摘要 在与适当光酸生成剂(PAG)一起使用时会形成正性光阻剂的聚合物。此聚合物包含酒石系多元酐骨架,经缩醛保护的1,2-二醇基团;及悬垂于骨架的稠合环缩醛基团。此经缩醛保护α-羟基酐骨架结构驱使有效光酸催化的裂解作用,此形成易溶解于水性显影剂中的小分子量裂片。此溶解度的高对比性使得操作者得以制造出高解析影像。稠合环提供耐蚀性且可由金刚酮或原樟脑环结构构成。添加市售光酸生成剂,此聚合物调配物形成能够提供高对比和解析的正性光阻剂。
申请公布号 TW499627 申请公布日期 2002.08.21
申请号 TW088109756 申请日期 1999.06.11
申请人 克来里恩国际公司 发明人 艾恩玛古劳曲;安东尼J.尹斯特;康鸣;里查柯欧西恩;样–那吴
分类号 G03F7/039;C08G67/04 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种可为正型光阻剂的聚合物,包含: a)聚酒石酸酐骨架; b)经缩醛保护的1,2-二醇基团;及 c)悬垂于骨架的稠合环缩醛基团。2.根据申请专利 范围第1项之聚合物,其中,悬垂缩醛基团是金刚酮 基团。3.根据申请专利范围第2项之聚合物,其中, 悬垂缩醛基团是原樟脑基团。4.根据申请专利范 围第1项之聚合物,其包含结构:5.根据申请专利范 围第4项之聚合物,其中,其另包括光酸生成剂以形 成光阻剂。6.根据申请专利范围第1项之聚合物,其 包含结构:7.根据申请专利范围第6项之聚合物,其 中,其另包括光酸生成剂以形成光阻剂。
地址 瑞士