发明名称 研磨工具及其制造方法
摘要 本发明系关于一种研磨工具,其用于机械性及化学性之平坦化研磨片状产品上,可使用于需精确、平坦及微研磨之半导体晶圆或其类似物上,及该研磨工具之制造方法。特别是将研磨颗粒与以镍为主之硬焊合金一起烧结及硬焊在该研磨工具上,而后在电镀制程中将烧结及硬焊层表面易于破裂或脱落之未烧结部份及再结晶部份予以填充或涂覆,其可以大幅减少晶圆上极微之刮痕、减少不良产品率或晶圆之损坏率,及延长该工具之磨损寿命(如第四图所示)。
申请公布号 TW499348 申请公布日期 2002.08.21
申请号 TW090110867 申请日期 2001.05.03
申请人 二和钻石工业股份有限公司 发明人 安正洙
分类号 B24D3/00;B23P15/30 主分类号 B24D3/00
代理机构 代理人 陈启舜 高雄巿苓雅区中正一路二八四号十二楼
主权项 1.一种制造研磨工具之方法,其步骤包含: (1)涂覆一硬焊合金结合料之研浆于一金属基质上 至预定厚度; (2)于步骤(1)之该研浆上散布预定数量之特级研磨 料、氮化硼晶体或钻石颗粒; (3)将步骤(2)之该金属基质大体上置于氢气炉或真 空炉中视金属结合料种类加热到介于700至1300℃之 烧结温度,而该金属结合料系用以熔合、固定该结 合料以形成一金属烧结层;及 (4)处理使电镀涂层仅涂覆在该烧结金属层之表面 上,以填充或涂覆可能脱落之粗糙部份及未烧结或 再结晶部份,该类部份位于步骤(3)之烧结金属层之 表面上。2.依申请专利范围第1项所述之制造研磨 工具之方法,其中调节该硬焊合金结合料之研浆涂 覆厚度,以使该烧结金属层之厚度总计为该研磨颗 粒平均直径50至80%之间。3.依申请专利范围第1项 所述之制造研磨工具之方法,其中该电镀层包括一 金属元素或包含二种以上元素之一合金,该类元素 选自镍、钴、铜、铬、钨、碳化钨、钛、钌、铑 、钯、钼、锆。4.一种研磨工具能使用于提供需 要高净度之平坦化研磨表面如半导体,其包含: 一金属基质12具有预定形状; 一烧结金属层16形成于该金属基质12上,其系形成 自经由特级研磨料、氮化硼晶体(CBN)或钻石颗粒 及以镍为主之硬焊合金间均匀散布之烧结及硬焊 相互结合;及 一电镀层18除了特级研磨料如氮化硼晶体(CBN)或钻 石颗粒所曝露出之表面外只形成于该烧结金属层 15表面之一部份,该电镀层18形成自一电镀制程以 填充或涂覆在该烧结金属层上之未烧结或再结晶 部份。5.依申请专利范围第4项所述之研磨工具,其 中该电镀层包括一金属元素或包含二种以上元素 之一合金,该类元素选自镍、钴、铜、铬、钨、碳 化钨、钛、钌、铑、钯、钼、锆。6.依申请专利 范围第4项所述之研磨工具,其中一部份之特级研 磨料颗粒如氮化硼晶体(CBN)或钻石颗粒系曝露在 该烧结金属层15上。7.依申请专利范围第4项所述 之研磨工具,其中该电镀层18之厚度约为该研磨颗 粒平均直径之30%至60%间。图式简单说明: 第1图:本发明之研磨工具制造方法第一步骤,其涂 覆一预定厚度之硬焊合金结合料之研浆于金属基 质上之放大示意图。 第2图:本发明之第一图之第一步骤实施后,该钻石 颗粒均匀分布状态之放大示意图。 第3图:本发明之研磨工具制造方法于烧结后,该钻 石颗粒一部份曝露及一部份嵌于该烧结金属层之 状态之放大示意图。 第4图:本发明之研磨工具制造方法于电镀后,该烧 结金属层之表面除了该钻石颗粒曝露之部份外,其 余部位皆被该电镀层涂覆之状态之放大示意图。
地址 韩国