发明名称 圆形或环形涂层膜的形成方法
摘要 一种使用一装置在一基片(W)上形成一圆形或环形涂层膜的方法,该装置的结构较为简单,而且不会浪费地使用涂层液,所述方法包括以下步骤:使用一涂层装置(A),构成该装置的是:可抽吸地水平保持基片(W)的一可旋转工作台(1),以及一水平移动的喷嘴(10),该喷嘴可相对于工作台(1)升高,其顶端部分具有一传送孔(10a),旋转工作台(1),以直线状态从传送孔(10a)向基片(W)提供涂层液,并同时沿工作台(1)的旋转中心与外部特定位置之间的一特定间隔中的一方向移动喷嘴(10),使喷嘴(1)被保持在相对于旋转工作台(1)的一特定高度处,以便在基片(W)上形成一圆形或环形的涂层膜。
申请公布号 CN1365302A 申请公布日期 2002.08.21
申请号 CN00810892.7 申请日期 2000.07.17
申请人 中外炉工业株式会社 发明人 横山卓也
分类号 B05D1/40;B05C11/08 主分类号 B05D1/40
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 顾峻峰
主权项 1.使用一涂层装置来形成一圆形或环形涂层膜的方法,构成所述涂层装置的是:一可旋转的工作台,通过抽真空将一基片水平地保持在所述工作台上;以及一喷嘴,所述喷嘴可以在所述工作台上方垂直及水平地移动,其末端部设有一排放孔,其中,沿在所述工作台的一旋转中心与预定外部位置之间的预定间隔中的一方向移动所述喷嘴,以便从排放孔直线地向基片提供涂层液,在该状态下,旋转工作台,并将所述喷嘴保持在离所述旋转工作台的一预定高度处。
地址 日本大阪府