发明名称 |
Method for producing microstructures and the corresponding use |
摘要 |
<p>Erläutert wird ein Verfahren, bei dem auf einem Werkstück (22) auf Siliziumbasis mindestens ein Bereich (50) durch funkenerosives oder elektrochemisches Formabtragen abgetragen wird. <IMAGE></p> |
申请公布号 |
EP1232823(A2) |
申请公布日期 |
2002.08.21 |
申请号 |
EP20020003677 |
申请日期 |
2002.02.18 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
EHBEN, THOMAS;REZNIK, DANIEL, DR. |
分类号 |
B23H9/00;(IPC1-7):B23H9/00;B23H1/00 |
主分类号 |
B23H9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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