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发明名称 INTEGRATION OF SILICON-RICH MATERIAL IN THE SELF-ALIGNED VIA APPROACH OF DUAL DAMASCENE INTERCONNECTS
摘要
申请公布号 SG90785(A1) 申请公布日期 2002.08.20
申请号 SG20010005822 申请日期 2001.09.25
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, LTD 发明人 SIMON CHOOI;MEI-SHENG, ZHOU;SUBHASH GUPTA;YI, XU
分类号 H01L21/027;H01L21/311;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/476 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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