发明名称 | 磁复录方法和磁复录装置 | ||
摘要 | 利用磁复录的磁复方法,不管磁图形的位置如何,可利用磁复录从磁复录用主载体向从属介质复录高品位的复录图形。在将与基板表面情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和接受复录的从属介质磁复录介质相接触,施加复录用磁场的磁复录方法中,从属磁复录介质的保磁力Hcs和该复录用磁场的关系为0.6≤复录用磁界≤1.3XHcs。 | ||
申请公布号 | CN1363924A | 申请公布日期 | 2002.08.14 |
申请号 | CN01100240.9 | 申请日期 | 2001.01.10 |
申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 小松和则;长尾信;西川正一 |
分类号 | G11B5/00;G11B5/86 | 主分类号 | G11B5/00 |
代理机构 | 北京北新智诚专利代理有限公司 | 代理人 | 王燕秋;鲁兵 |
主权项 | 1.一种磁复录方法,特征是在将与基板表面情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和接受复录的从属介质紧密接触,施加复录用磁场的磁复录方法中,包括沿从属介质的磁道方向施加磁场,予先沿磁道方向将从属介质形成初期直流磁化后,再将磁复录用主载体和初期直流磁化的从属介质紧密接触,沿从属介质的磁道方向施加复录用磁场,进行磁复录。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |