金属离子注入改性非晶碳膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种金属离子注入改性非晶碳膜的制备方法。本发明包括利用石墨及金属为原料,采用直流磁控溅射及离子注入的制备方法。其特点是:所制涂层是一种改性的物理气相沉积涂层,制备工艺相对简单,具有良好的抗磨损及润滑性能,可作为器件表面减摩抗磨涂层使用。

主权项

1.一种金属离子注入改性非晶碳膜的制备方法，其特征在于包括制备步骤：(1)溅射靶的压制：将300～500目石墨粉在107～109Pa的压力下压制成厚约2.0～3.0mm，直径50～65mm的石墨靶；(2)涂层的沉积：将压制的石墨靶作为直流磁控溅射装置的阴极，在0.1～5.0Pa的沉积气压下进行靶表面的溅射清洗，溅射气氛为纯Ar；将基底充分清洗后送入真空室样品台，在0.1～5.0Pa的Ar下进行溅射沉积，沉积过程中在基底上施加80V～250V负偏压，涂层总厚度控制在10～200nm；(3)金属离子的注入：金属离子注入在金属离子注入机上进行，利用金属棒作为靶源，加速电压30～100kV，弧流30～70A，束流密度0.1～1.5mA/cm2，注入剂量为1×1013～1×1016ions/cm2。