| 主权项 |
1.一种表面处理方法,主要具有在大气压力及其附近之压力下,于电极与被处理材之间产生气体放电,以该气体放电产生一定之气体之激起活性种,将该被处理材表面曝露于该激起活性种之工程,其特征为包括:在该被处理材表面配设掩罩装置而限制该处理领域之过程。2.如申请专利范围第1项之方法,其中将该掩罩装置接触于该被处理材表面设置。3.如申请专利范围第1项之方法,其中将该掩罩装置配置成与被处理材表面之间保持微小间隙之状态。4.如申请专利范围第3项之方法,其中将该一定之气体经由该间隙供给于该气体放电之产生领域内。5.如申请专利范围第3项之方法,其中配合预先对放置该被处理材之台架上决定之高度位置机械式的定位该掩罩装置。6.如申请专利范围第3项之方法,其中以光学方式检测该掩罩装置与该被处理材表面之距离而决定该间隙。7.如申请专利范围第3项之方法,其中将该一定气体喷出于该间隙内而且检测该气体之压力而决定该间隙。8.一种表面处理装置,主要具有在大气压力及其附近之压力下,在与被处理材之间产生气体放电之电极,及将一定气体供给于该气体放电之产生领域之装置,其特征为又包括:限制曝露于因该气体放电而产生之该气体之激起活性种之该被处理材表面之领域之掩罩装置。9.如申请专利范围第8项之装置,其中接触该被处理材表面之该掩罩装置之前端成为细长。10.如申请专利范围第8项之装置,其中该掩罩装置系由绝缘体形成。11.如申请专利范围第8项之装置,其中该掩罩装置之至少一部分系由导电体形成。12.如申请专利范围第8.10或11项中之任一项之装置,其中该气体供给装置将该一定气体经由形成于该掩罩装置与该被处理材表面之间之间隙供给于该气体放电之产生领域。13.如申请专利范围第12项之装置,其中该掩罩装置为了将该一定气体从该气体供给装置供给于该气体放电之产生领域而具有开口于该间隙之气体喷出口。14.如申请专利范围第8项之装置,其中具有将该掩罩装置相对的接近或离开放置该被处理材之台架之驱动机构。15.如申请专利范围第8或14项之装置,其中又具有测定该掩罩装置与该被处理材表面之间隔之光侦测器。16.如申请专利范围第13项之装置,其中具有检出自前述气体喷出口,向前述间隙内喷射气体之压力的压力侦测器和,根据自前述压力侦测器之信号,对于载有前述被处理材之台架令前述掩罩手段相对地接触或远离之驱动机构者。17.如申请专利范围第8项之装置,其中该电极成为细长之直线状,而该掩罩装置沿着该电极延长。18.如申请专利范围第17项之装置,其中该掩罩装置沿着该电极两侧设置。19.如申请专利范围第8项之装置,其中该电极外面由介电质披覆。20.如申请专利范围第19项之装置,其中该掩罩装置与该介电质成为一体。21.如申请专利范围第19项之装置,其中面对该气体放电之产生领域之该介电质之部分由多孔质体形成,而且该一定气体经由该多孔质体导入该气体放电之产生领域。22.如申请专利范围第8项之装置,其中将供给于该气体放电之产生领域内之该一定气体强制的排出之排出口设在该电极两旁,与该掩罩装置相反侧。23.一种液晶面板之彩色滤片之制造方法,该液晶面板制法具有透明支持体,形成于该支持体上之着色层,透明保护层及透明电极,其特征为包括:将掩罩装置配置成将对应于该透明电极之端子部之该透明保护层之周边部分与该透明保护层之其他部分分隔之状态,在大气压力及其附近之压力下,于电极与该透明保护层之间产生气体放电,利用该气体放电产生一定气体之激起活性种,将透明保护层之该周边部分选择性的曝露于该激起活性种而去除之过程。24.一种液晶面板之彩色滤片,该液晶面板具有透明支持体及形成于将支持体上之着色层,透明保护层及透明电极,其特征为:该透明保护层系将掩罩装置配置成将对应于该透明电极之端子部之周边部分与其他部分分隔之状态,而且在大气压力下及其附近之压力下,于电极与该透明保护层之间产生气体放电,将该周边部分选择性的曝露于由于该气体放电而产生之一定气体之激起活性种而去除,藉此去除该透明电极之端子部的局部的形成。25.如申请专利范围第24项之滤片,其中该着色层系利用胶束电解法形成。26.如申请专利范围第24或25项之滤片,其中该透明保护层系形成在设置于该支持体上之该着色层上,该透明电极形成于该透明保护层上。27.如申请专利范围第24或25项之滤片,其中该透明电极直接形成于该支持体上,而且在形成于其上之该着色层上形成该透明保护层。28.一种液晶面板之制造方法,其特征为包括:在形成透明电极之透明基板上之全面形成定向膜,将掩罩装置配置成将对应于该透明电极之端子部位置之该定向膜之周边部部分与该定向膜之其他部分分隔之状态,在大气压力及其附近之压力下,于电极与该定向膜之间产生气体放电,利用该气体放电产生一定气体之激起活性种,将该定向膜之周边部分选择性的曝露于该激起活性种而去除之过程。29.一种液晶面板,主要具有透明基板及形成于其上之透明电极及定向膜,其特征为:该定向膜系将掩罩装置配置成将对应于该透明电极之端子部之周边部分与其他部分分隔之状态,在大气压力及其附近之压力下,于电极与该定向膜之间产生气体放电,将该周边部分选择性的曝露于因该气体放电而产生之一定气体之激起活性种而去除,藉此使该透明电极之端子部露出的局部的形成。图式简单说明:第1图为本发明之表面处理装置之第1实施例之局部断面透视图;第2图为使掩罩接触被处理材表面之表面处理装置之局部断面图;第3图为具有与第2图不同之形状之掩罩之表面处理装置之局部断面图;第4图为在第2图所示之状态进行局部灰化之被处理材之放大断面图;第5图为将掩罩配置成在与被处理材表面之间形成间隙时之表面处理装置之局部断面图;第6图为本发明表面处理装置之第2实施例之局部断面透视图;第7图为第6图所示表面处理装置之局部断面图;第8图为第7图所示掩罩之变更例之局部断面图;第9图为将排气构造一体化之第2实施例之表面处理装置之局部断面图;第10图为第2实施例之表面处理装置之另一变更例之局部断面图;第11图为本发明之表面处理装置之第3实施例之局部断面图;第12图为第11图所示变更例之局部断面图;第13图为本发明之表面处理装置之第4实施例之局部断面图;第14图为将掩罩及电极定位之表面处理装置之驱动机构之概略正面图;第15图为具有使用光侦测器之间隙检测机构之表面处理装置之断面图;第16图为具有使用压力侦测器之间隙检测机构之表面处理装置之断面图;第17图为本发明之液晶面板之彩色滤片之制造方法之A图-E图所构成之过程图;第18图为利用第17图所示方法制造之彩色滤片之局部放大断面图;第19图为本发明之胶束彩色滤片之制造方法之A图-E图所构成之过程图;第20图为本发明之液晶面板之制造方法之A图-F图所构成之过程图;第21图为习用之液晶面板用彩色滤片之构造之断面图。第22图为与第21图所示不同之彩色滤片之构造之断面图;第23图为习用之彩色滤片之另一构造之断面图;第24图为习用之局部印刷所制成之透明保护层之局部放大断面图。 |
