Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-Substrats,申请号DE19966019602T-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-Substrats
摘要
申请公布号	DE69619602(T2)	申请公布日期	2002.08.08
申请号	DE19966019602T	申请日期	1996.07.12
申请人	CANON K.K., TOKIO/TOKYO	发明人	YAMAGATA, KENJI;YONEHARA, TAKAO;SATO, NOBUHIKO;SAKAGUCHI, KIYOFUMI
分类号	H01L21/306;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/20	主分类号	H01L21/306
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