| 摘要 |
Auf einer Maske umfassen symmetrische, paarweise angeordnete Strukturen (30, 31) wie sie typischerweise bei Grabenkondensatorebenen ausgestaltet sind Segmente (50) an den von der Symmetrieachse des Paares abgewandten Außenseiten (91), welche unterhalb der Auflösungsgrenze des auf einen Wafer projizierenden Linsensystemsliegen. Dadurch können Verzeichnungen eng beieinanderliegender Strukturen (30, 31) durch Linsenaberrationen 3. Ordnung wir die Koma oder das sog. three-leaf-clover vorteilhaft besonders im Falle der Verwendung von Off-Axis-Beleuchtung oder Phasenmasken reduziert werden. Symmetrische Maskenstrukturen (30, 31) werden als symmetrische Strukturen (40, 41) auf den Wafer abgebildet und das Prozeßfenster für die Projektion wird vergrößert. |
