发明名称 SCANNING DEPOSITION HEAD FOR DEPOSITING PARTICLES ON A WAFER
摘要 <p>Selon l'invention, un compartiment de dépôt (18) est formé dans un boîtier (10) qui présente un transporteur de substrat (12) en son intérieur. Le transporteur de substrat (12) peut tourner autour d'un axe central (20), et une tête de dépôt de particules (24) est montée dans le compartiment (18) sur un support (40) qui peut se déplacer linéairement le long de lignes qui sont sensiblement radiales par rapport à l'axe central (20) du transporteur de substrat (12). La tête de dépôt (24) peut ainsi se déplacer pour faire prendre différentes positions radiales à un substrat (26) porté par le transporteur de substrat (12) lorsque ledit transporteur (12) tourne au cours du processus de dépôt de la part de la tête (24) afin de permettre la réalisation d'une large gamme de motifs de dépôt sur le substrat. La tête de dépôt (24) présente une paire d'ouvertures de décharge aérosol (28, 30), l'une se trouvant à l'extrémité d'un passage central sensiblement tubulaire (28) et l'autre se trouvant à l'extrémité d'un passage annulaire (30) qui entoure le passage tubulaire central (28).</p>
申请公布号 WO2002061172(A1) 申请公布日期 2002.08.08
申请号 US2002001462 申请日期 2002.01.18
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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