发明名称 Atomic layer deposition apparatus for depositing multi substrate
摘要 <p>복수매 기판의 박막 증착 공정이 가능한 원자층 증착장치를 개시한다. 개시된 원자층 증착장치는 진공챔버와, 상기 진공챔버 내에 설치되는 것으로 그 내부에 복수매의 기판이 수용되는 반응용기와, 상기 반응용기와 상호 대향되게 설치되어 반응가스 및 퍼징가스를 상기 반응용기 내로 공급하는 가스 공급부를 구비하며, 상기 반응용기는 분리 가능한 다수의 모듈이 상보적으로 각각 조립되어 마련되는 것으로 일측에 개구가 형성되어 있는 몸체부; 상기 모듈들의 조합에 의해 상기 몸체부 내에 공간적으로 구획되어 형성되며, 상기 개구를 통하여 그 내부영역에 상기 기판이 각각 수용되는 다수의 스테이지부; 및 상기 모듈들의 타측에 각각 형성되어 상기 스테이지부들과 연통되는 것으로 상기 가스 공급부로부터 공급되는 상기 가스들이 그 경로를 통해 상기 스테이지부들로 주입되는 다수의 가스 공급라인;를 구비함으로써, 복수매의 동일 기판에 균일도가 향상된 미세 패턴의 박막을 동시에 증착시킬 수 있기 때문에 단위 시간에 대한 증착효율을 크게 증진시켜 결과적으로는 생산효율이 향상된다.</p>
申请公布号 KR100347379(B1) 申请公布日期 2002.08.07
申请号 KR19990015805 申请日期 1999.05.01
申请人 주식회사 피케이엘;정보통신연구진흥원 发明人 현광수;박경호;윤능구;최강준;정수홍
分类号 C23C14/24;C23C16/44;C23C16/455;C30B25/14;H01L21/203 主分类号 C23C14/24
代理机构 代理人
主权项
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