| 发明名称 |
PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH02129375(A) |
申请公布日期 |
1990.05.17 |
| 申请号 |
JP19880279424 |
申请日期 |
1988.11.07 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
FURUMURA YUJI;TOKI MASAHIKO |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/511;C23C16/515;H01L21/205;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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