发明名称 DEVICE FOR TREATING SUBSTRATES
摘要 본 발명의 목적은 기판들의 처리, 특히 반도체 웨이퍼들의 처리를 위해 제공되고 처리 탱크(3)를 포함하는 장치의 분리된 흡입 개구부들(13, 14, 15)을 개방하고 폐쇄하기 위한 간단하고 경제적인 장치를 제공하는 것이다. 상기 처리 탱크는 처리 유체로 채워지고 적어도 두 개의 분리된 흡입 개구부들(13, 14, 15)을 갖는 실질적으로 폐쇄된 공간에 배열된다. 이 때문에, 상기 공간으로부터 그것을 분리시키는 동안 상기 흡입 개구부를 커버하고 관통 개구부(18)를 포함하는 회전 디스크(17)가 제공된다. 상기 흡입 개구부들(13, 14, 15) 중의 하나가 상기 관통 개구부에 의해 적어도 부분적으로 중첩될 수 있다.
申请公布号 KR20020063252(A) 申请公布日期 2002.08.01
申请号 KR20027008041 申请日期 2002.06.21
申请人 스테그 마이크로테크 게엠베하 发明人 마르쉬너,볼프강;뮐러,우베
分类号 H01L21/304;F16K3/08;H01L21/683 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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