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Ein Beschichtungssystem wird zum Aufbringen von Teilchen auf ein Substrat, z. B. einen Wafer, in einer Beschichtungskammer verwendet. Die Teilchen werden in einem Aerosol mitgeführt, das in einem Zerstäuber erzeugt wird, welcher eine Prallplatte zum Entfernen großer Teilchen vor dem Abgeben des Aerosols aufweist und welcher eine Ausgabe aufweist, die durch einen Teilchenklassifizierer der Beschichtungskammer zugeführt wird. Es werden verschiedene Flußleitungszweige verwendet, so daß das Aerosol, in dem sich klassifizierte Teilchen befinden, mit einem reinen, trockenen Gas gemischt wird, bevor es in die Beschichtungskammer abgegeben wird, wobei das Aerosol selektiv zur Beschichtungskammer geleitet werden kann, ohne daß die Teilchen klassifiziert werden. Die das Aerosol führenden Leitungen können zu Anfang mit einer Vakuumquelle verbunden werden, die das Aerosol schnell dicht neben die Beschichtungskammmer zieht, um Verzögerungen zwischen Beschichtungszyklen zu vermeiden.
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