| 发明名称 |
SPACER PROCESS TO ELIMINATE ISOLATION TRENCH PARASITIC CORNER DEVICES IN TRANSISTORS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1226606(A1) |
申请公布日期 |
2002.07.31 |
| 申请号 |
EP20000980252 |
申请日期 |
2000.11.01 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES NORTH AMERICA CORP. |
发明人 |
VOLLRATH, JOERG |
| 分类号 |
H01L21/76;H01L21/28;H01L21/336;H01L29/423;H01L29/51;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/762 |
主分类号 |
H01L21/76 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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