| 发明名称 | 薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种薄膜,其在将薄膜安装于掩模时,不会损伤掩模,并且不仅在掩模和薄膜被膜的平面保持在水平方向时,在保持垂直方向时也可以保持掩模的平面性(平直度)。由薄膜被膜,支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜,其特征在于,该树脂层是由硬质树脂形成的层和软质树脂形成的层组合而形成的。 | ||
| 申请公布号 | CN1361547A | 申请公布日期 | 2002.07.31 |
| 申请号 | CN01144608.0 | 申请日期 | 2001.12.20 |
| 申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 津本高政;仓田洋行;中川广秋;藤田稔 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F1/14 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.由薄膜被膜，支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜，其特征在于该树脂层是由硬质树脂层和软质树脂层组合而形成的。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||