发明名称 |
METHOD AND STRUCTURE FOR SURFACE STATE PASSIVATION TO IMPROVE YIELD AND RELIABILITY OF INTEGRATED CIRCUIT STRUCTURES |
摘要 |
게이트 유전체 층을 갖는 게이트 도체를 포함하는 집적 회로에서 표면 상태를 패시베이션(passivation)하기 위한 방법은 고상 불소 공급원(solid state source)을 게이트 유전체 층에 근접하게 제조하는 단계를 포함한다. 또한, 집적 회로 구조물은 상부에 게이트 유전체 층을 가진 기판과 이 기판상의 게이트 유전체 층 상부에 놓인 게이트 도체를 포함한다. 게이트 도체는 에지(edge)와 게이트 유전체 층에 근접한 고상 불소 공급원을 포함한다. |
申请公布号 |
KR100345432(B1) |
申请公布日期 |
2002.07.26 |
申请号 |
KR19990056657 |
申请日期 |
1999.12.10 |
申请人 |
인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 |
发明人 |
로스티븐케이 |
分类号 |
H01L21/8232;H01L21/28;H01L21/8242;H01L29/49 |
主分类号 |
H01L21/8232 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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