| 发明名称 |
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IL146135(D0) |
申请公布日期 |
2002.07.25 |
| 申请号 |
IL20000146135 |
申请日期 |
2000.05.03 |
| 申请人 |
SILICON VALLEY GROUP THERMAL SYSTEMS, LLC |
发明人 |
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| 分类号 |
B05D3/10;B01J19/00;C23C10/48;C23C16/44;C23C16/54;C23C28/00;C23C30/00;(IPC1-7):C23C |
主分类号 |
B05D3/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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