Parameterüberwachungsvorrichtung für eine Hochspannungskammer in einem Halbleiterwaferverarbeitungssystem

摘要

Eine Parameterüberwachungsvorrichtung für eine Hochspannungskammer in einem Halbleiterwaferverarbeitungssystem überwacht Parameter in der Hochspannungskammer durch ein Umwandeln eines elektrischen Signals, das von der Hochspannungskammer erzeugt worden ist, in ein optisches Signal mit Hilfe eines elektro-optischen Wandlers, und durch anschließendes Umwandeln des optischen Signals von dem elektro-optischen Wandler zurück in ein elektrisches Signal mit Hilfe eines optoelektrischen Wandlers. Da somit die Parameter der Hochspannungskammer nicht unter dem Einfluß der Potentialdifferenz aufgrund der Hochspannung geraten, können sie in Echtzeit ohne einem Beschädigen der Meßvorrichtungen überwacht werden.