| 发明名称 |
POLYMER COMPOUND, METHOD OF PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN FORMATION METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG90225(A1) |
申请公布日期 |
2002.07.23 |
| 申请号 |
SG20010000222 |
申请日期 |
2001.01.15 |
| 申请人 |
TOYO GOSEI KOGYO CO., LTD |
发明人 |
SHIN UTSUNOMIYA;SEIGO YAMADA |
| 分类号 |
G03F7/004;C08F2/50;C08F8/00;C08F220/06;C08F220/28;C08F290/06;C08F290/12;C08F299/00;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/038;C08F222/10 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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