| 发明名称 |
Method of polishing using a polishing pad |
| 摘要 |
A polishing pad for polishing hard surfaces such as glass and silicon wafers and a method of polishing using such a polishing pad.
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| 申请公布号 |
US6419556(B1) |
申请公布日期 |
2002.07.16 |
| 申请号 |
US20000587887 |
申请日期 |
2000.06.06 |
| 申请人 |
RODEL HOLDINGS INC. |
发明人 |
URBANAVAGE WALTER J.;REINHARDT HEINZ F. |
| 分类号 |
B24B1/00;B24D99/00;(IPC1-7):B24B1/00 |
主分类号 |
B24B1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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