| 摘要 |
<p>Procédé servant à fabriquer un photomasque et un micro-composant de haute précision et de qualité élevée et consistant à créer des repères (53) dans les zones voisines (52) d'un masque (Ri), un masque de contrôle (60) possédant des repères (63) situés dans des positions opposées aux repères (53) et des repères (64 à 66) placés dans une zone de motif (61). On corrige des caractéristiques d'image au moyen de la mesure des images projetées des repères (64 à 66) du masque de contrôle (60) et du réglage de l'agrandissement d'une projection, de manière à limiter au maximum des déviations des images projetées des repères (64 à 66) par rapport à des positions idéales et on mesure les positions des images projetées des repères (63) à ce moment. Lors du transfert du motif (Pi) du masque (Ri), on mesure les positions des images projetées des repères (53) du masque (Ri) et on corrige les caractéristiques d'image, de façon à aligner virtuellement ces positions sur les positions des repères (63) du masque de contrôle, ce qui permet de transférer le motif (Pi) du masque (Ri) sur un substrat photosensible (4).</p> |
