| 主权项 |
1.一种平面阴极射线管,其包括具有一主聚焦透镜且该透镜中心系与一管轴一致的一电子枪、一偏转线圈、及设于一颈部外侧之一磁铁,其特征在该电子枪之一预聚焦透镜系与该管轴分离。2.如申请专利范围第1项之平面阴极射线管,其中非偏转期间内之一电子束系辐射至除了一管本体之一熔块结合部以外的一屏幕非操作部上。3.一种用于平面阴极射线管之电子枪,其包括一阴极及复数个栅极,其特征在一预聚焦透镜系与一电子枪之一中心轴在一方向上分离且在该方向上因设于一颈部外侧之一磁铁的一磁场所造成之一电子束轴离量将变得较小。4.如申请专利范围第3项之用于平面阴极射线管之电子枪,其中该复数个栅极中之第一及第三栅极的电子束贯穿孔中心系与该电子枪之一中心轴一致,且一第二栅极之电子束贯穿孔系与该中心轴分离。5.如申请专利范围第4项之用于平面阴极射线管之电子枪,其中该第二栅极之电子束贯穿孔之中心的一轴离量系0至-30微米(不包括0)。6.如申请专利范围第3项之用于平面阴极射线管之电子枪,其中该复数个栅极中之第一及第三栅极的电子束贯穿孔中心系与该电子枪之一中心轴一致,且具有一电子束贯穿孔之一第二栅极的一末端表面系相对于该中心轴倾斜。7.一种制造用于平面阴极射线管之电子枪的方法,其步骤包括:制备一第一栅极,其具有形成于一参考位置处之一电子束贯穿孔且具有形成于另一参考位置处之一定位孔,及制备一第二栅极,其具有与一参考位置分离一既定距离之一电子束贯穿孔且具有形成于另一参考位置处之一定位孔,及将复数个定位装置插入该第一及第二栅极之定位孔中以将该第一及第二栅极定位成一分隔件插入该第一与第二栅极之间的一状态。8.一种制造用于平面阴极射线管之电子枪的方法,其步骤包括:制备一第一栅极,其具有形成于一参考位置处之一电子束贯穿孔且具有形成于另一参考位置处之一定位孔,及制备一第二栅极,其具有形成于一参考位置处之一电子束贯穿孔且具有形成于另一参考位置处之一定位孔,及将复数个定位装置插入该第一及第二栅极之定位孔中以定位该第一及第二栅极,使得具有一电子束贯穿孔之该第二栅极之一末端表面相对于该第一栅极倾斜而成为一楔型分隔件插入该第一与第二栅极之间的一状态。图式简单说明:图1系显示一习知平面阴极射线管之结构;图2系该平面阴极射线管之一局部剖面平面图;图3系显示该习知平面阴极射线管之一电子枪的放大视图;图4系该习知平面阴极射线管之一平面图且其中显示出射束点导致晕影;图5系显示本发明一平面阴极射线管之一模态的结构;图6系显示安装至该平面阴极射线管之一中心位置调整磁铁范例的透视图;图7系用于本发明平面阴极射线管之一电子枪之一模态的结构;图8系显示本发明电子枪中之一预聚焦透镜效应的说明用视图;图9系显示用于本发明平面阴极射线管之电子枪之另一模态的结构;图10系显示用于本发明平面阴极射线管之电子枪之另一模态的结构;图11系显示本发明平面阴极射线管之另一模态的结构;图12系解释用于本发明平面阴极射线管之电子枪之一制造方法的一模态之复数个步骤,其中图12A系一第一栅极之透视图,及图12B系一第二栅极之透视图;图13系解释用于本发明平面阴极射线管之电子枪之制造方法的一模态之一步骤(2);图14系显示用于图13中之一分隔件范例的透视图;图15系解释用于本发明平面阴极射线管之电子枪之制造方法的一模态之一步骤(3);图16系解释用于本发明平面阴极射线管之电子枪之制造方法的另一模态之一步骤(3),其中图16A系一第一栅极之透视图,及图16B系一第二栅极之透视图;图17系解释用于本发明平面阴极射线管之电子枪之制造方法的另一模态之一步骤(2);图18系显示用于图17中之分隔件范例的透视图;图19系解释用于本发明平面阴极射线管之电子枪之制造方法的另一模态之一步骤(3);图20系一图表,其显示以第二栅极G2电子束贯穿孔hG2之轴离量作为一参数的该管一轴向方向上之一距离Z与该电子束之轴离量之间的关系;图21系一图表,其显示使用一模拟结果及实际测量资料之一SP运动量与第二栅极G2电子束贯穿孔hG2之该电子束轴离量之间的关系;图22系本发明之平面阴极射线管平面图,其中显示不具有晕影之射束点;图23系一图表,其显示一晕影宽度与第二栅极G2电子束贯穿孔hG2之轴离量之间的关系;图24系一图表,其显示以第二栅极G2贯穿孔hG2轴离量作为一参数的SP运动量与晕影宽度之间的关系;以及图25系一图表,其显示中心位置调整磁铁之磁场与萤光表面上之一电子束位置偏移量之间的一相关性系范例。 |
