| 主权项 |
1.一种粗糙面反射板之制造方法,至少包括:形成复数个金属结构于一基材上;涂布一光阻层以覆盖该些金属结构与该基材;利用该些金属结构作为一罩幕,进行一背面曝光步骤,藉以使得该光阻层形成复数个突起物于该些金属结构上;以及形成一反射层于该些突起物上。2.如申请专利范围第1项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中该些金属结构可为定义一薄膜电晶体之一闸极层时,所同时定义出的复数个元件结构。3.如申请专利范围第2项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中在形成该些金属结构的步骤之后,更包括涂布一绝缘层于该些金属结构与该些元件结构上。4.如申请专利范围第1项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中该些金属结构可为定义一薄膜电晶体之一金属材料层时,所同时定义出的复数个元件结构。5.如申请专利范围第1硕所述之粗糙面反射板之制造方法,其中该些金属结构更可由在一薄膜电晶体制程中,同步定义而成的复数个闸极层与复数个金属材料层所堆叠而成。6.如申请专利范围第1项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中该些金属结构可分别因为具有不同形状而使该些突起物具有不同高度。7.如申请专利范围第1项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中在进行该背面曝光步骤之后,更包括对该些突起物进行一烘烤步骤。8.如申请专利范围第1项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中在形成该反射层的步骤与进行该背面曝光步骤之间,更包括涂布一有机层于该些突起物上。9.一种粗糙面反射板之制造方法,至少包括:提供一基材;形成一薄膜电晶体,且同步形成复数个金属堆叠结构于该基材上;涂布一光阻层以覆盖该薄膜电晶体该些金属堆叠结构;进行一背面曝光步骤,藉以使得该光阻层形成复数个突起物于该些金属堆叠结构上;以及形成一反射层于该些突起物上。10.如申请专利范围第9项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中在进行该背面曝光步骤之后,更包括对该些突起物进行一烘烤步骤。11.如申请专利范围第9项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中在形成该反射层之步骤与进行该背面曝光步骤之间,更包括涂布一有机层于该些突起物上。12.如申请专利范围第9项所述之粗糙面反射板之制造方法,其中在形成该些金属堆叠结构的步骤之后,更包括涂布一绝缘层于该些金属堆叠结构上。13.一种液晶显示器之下板之制造方法,其中该液晶显示器包括一上板与该下板以及位于该上板与该下板间之一液晶层,而该液晶显示器之下板之制造方法至少包括:形成一闸极层于一基材上,并同步形成复数个第一金属层于该基材上;形成一非晶矽层以覆盖该闸极层;形成一源极与一汲极于该闸极层上;形成一透光区于该基材上,其中该透光区系一透明导电膜;形成一光阻层以覆盖该闸极层、该些第一金属层、该非晶矽层、该源极、该汲极与该透光区;利用该些第一金属层作为一罩幕,进行一背面曝光步骤,藉以使得该光阻层形成复数个突起物于该些第一金属层上;形成一反射层于该些突起物上;以及定义该反射层以暴露出该透光区于该基材上。14.如申请专利范围第13项所述之液晶显示器之下板之制造方法,其中上述之形成该源极与该汲极的步骤,更包括同步形成复数个第二金属层于该基材上,其中该些第二金属层可作为该背面曝光步骤之罩幕,藉以形成该些突起物于该些第二金属层上。15.如申请专利范围第13项所述之液晶显示器之下板之制造方法,其中在进行该背面曝光步骤之后,更包括对该些突起物进行一烘烤步骤。16.如申请专利范围第13项所述之液晶显示器之下板之制造方法,其中上述在形成该反射层之步骤与进行该背面曝光步骤之间,更包括涂布一有机层于该些突起物上。17.如申请专利范围第13项所述之液晶显示器之下板之制造方法,其中在形成该闸极层的步骤之后,更包括涂布一绝缘层于该闸极层与该些第一金属层上。图式简单说明:第1图所绘示为习知具镜面反射板之液晶显示器结构;第2图所绘示为具粗糙面反射板之液晶显示器结构;第3图至第8图所绘示为习知粗糙面反射板制造方法流程图;第9图所绘示为习知制造以有机层作为突起物结构之液晶显示器结构。第10图所绘示为习知以同步蚀刻方法制造突起物结构之液晶显示器结构;第11图至第13图所绘示为本发明粗糙面反射板制造方法之一实施例流程图;第14图至第21图所绘示为本发明粗糙面反射板制造方法之另一实施例流程图; |
